[发明专利]一种双色红外器件结构及红外探测器有效

专利信息
申请号: 202111453019.8 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN114300566B 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: 周朋;胡雨农;王丹;李震 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/103 分类号: H01L31/103;H01L31/0304
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 田卫平
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 红外 器件 结构 红外探测器
【权利要求书】:

1.一种双色红外器件结构,其特征在于,所述双色红外器件结构具有从下至上设置的复合衬底、第一吸收层、复合势垒层、第二吸收层和上电极层;

所述复合衬底包括从下至上设置的:

第一衬底,材料为InSb,作为所述双色红外器件的基础层;

过渡层,材料为InSb,作为缓冲层和下电极层;

所述第一吸收层,材料为InSb,用以实现对第一波段的红外光的探测;

所述复合势垒层包括从下至上设置的:

第一势垒层,材料为InAlSb,含有第一梯度组分的Al,且第一梯度组分从0%过渡到第一组分;

第二势垒层,材料为InAlSb,含有第一组分的Al;

所述第二吸收层,材料为InAsSb,含有第二组分的As,用以实现对第二波段的红外光的探测,且所述第二波段的波长大于所述第一波段的波长;

所述上电极层,材料为InAsSb,含有第二组分的As;

所述过渡层的厚度为0.3μm~0.5μm,所述第一吸收层的厚度为3μm~5μm,所述第一势垒层的厚度为0.3μm,所述第二势垒层的厚度为0.2μm,所述第二吸收层的厚度为2~3μm,所述上电极的厚度为0.2~0.5μm;

所述第一组分为44%;

所述第二组分满足36%~37%;

所述过渡层,掺杂类型为n型,掺杂浓度大于5×1017cm-3

所述第一吸收层,掺杂类型为n型,掺杂浓度为3×1016cm-3-5×1016cm-3;所述第一势垒层,掺杂类型为n型,掺杂浓度3×1016cm-3-5×1016cm-3

所述第二势垒层,掺杂类型为n型,掺杂浓度3×1016cm-3-5×1016cm-3

所述第二吸收层,掺杂类型为n型,掺杂浓度3×1016cm-3-5×1016cm-3

所述上电极层,掺杂类型为n型,掺杂浓度大于5×1017cm-3

2.一种双色红外探测器,其特征在于,所述双色红外探测器具有如权利要求1所述的双色红外器件结构。

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