[发明专利]一种适用硅胶硫化脱模的UV胶配方

权利要求书

1.一种适用硅胶硫化脱模的UV胶，其特征在于，所述UV胶由如下重量百分比的原料组成：

长链烷基丙烯酸酯单体15-20%；

聚乙二醇400二丙烯酸酯单体15-20%；

乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯单体12-15%；

光引发剂1-3%；

有机硅改性助剂1-3%；

改性聚酯丙烯酸酯单体余量；

其中，所述有机硅改性助剂是蓝柯路生产的5003B抗刮细滑手感剂和斯洛柯生产的8586交联型有机硅增滑剂；其中蓝柯路生产的5003B抗刮细滑手感剂和斯洛柯生产的8586交联型有机硅增滑剂比例为1:2，改性聚酯丙烯酸酯单体与有机硅改性助剂结合可粘于PET表面的同时又附带爽滑离型效果；

其中，改性聚酯丙烯酸酯单体是CT-1380-5和CT3316。

2.根据权利要求1所述的一种适用硅胶硫化脱模的UV胶，其特征在于：所述UV胶的制备方法如下：

S10、改性聚酯丙烯酸酯、长链烷基丙烯酸酯、聚乙二醇400二丙烯酸酯单体、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯单体；放入容器搅拌至均匀；

S11、加入有机硅改性助剂搅拌均匀；

S12、加入光引发剂密闭搅拌均匀。

3.根据权利要求2所述的一种适用硅胶硫化脱模的UV胶，其特征在于：步骤S10的搅拌时间与步骤S11搅拌时间与步骤S12搅拌时间比例为1:1:2。

4.根据权利要求2所述的一种适用硅胶硫化脱模的UV胶，其特征在于：步骤S10与步骤S11采用增力电动搅拌机完成搅拌；所述步骤S12采用真空搅拌机完成搅拌。

5.根据权利要求1所述的一种适用硅胶硫化脱模的UV胶，其特征在于：所述UV胶应用于UV纹路转印膜的方法如下：

a.将制备好的UV胶施涂于图案模具；

b.贴敷基底层，施加压力将UV胶推平；

c.经过UV光照固化，揭下转印膜。

6.根据权利要求5所述的一种适用硅胶硫化脱模的UV胶，其特征在于：所述基底层为PET膜；所述施加压力将UV胶推平采用压辊进行推平。