[发明专利]一种可测结构精度的纳米压印设备及压印方法

权利要求书

1.一种可测结构精度的纳米压印方法，其特征在于，包括如下步骤：

A、右侧门打开，原始模具放入检测单元晶圆托盘；

B、膜厚检测探头根据设定好的路径，在XY轴位移平台上移动，测试多点结构深度，并实时传输到电脑上；

C、机械手臂运动，真空吸附原始模具，然后移动到压印单元内托盘上，机械手臂回到原位；

D、压印单元执行复制流程，左侧门打开，固定PET，然后点胶，托盘缓慢向上移动；

E、直至胶均匀覆盖在原始模具表面，随后紫外灯对胶进行固化；

F、固化完成后脱模，脱模后将原始模具从左侧门取出；

G、左侧门关闭，右侧门开启，压印基片放入检测单元托盘，膜厚检测探头按程序测试相同点位基片厚度，并实时传输到电脑上，保证基片平整度符合压印要求；

H、机械手臂运动，真空吸附基片，然后移动到压印单元内托盘上，机械手臂回到原位；

I、压印单元执行复制流程，左侧门打开，固定PET，然后点胶，托盘缓慢向上移动；

J、直至胶均匀覆盖在压印基片表面，随后紫外灯对胶进行固化；

K、固化完成后脱模，机械手臂运动，真空吸附压印片移动到检测单元晶圆托盘上，由膜厚检测探头测试相同点位压印结构深度，并通过软件与原始模具结构深度进行比较，计算偏差；L、将压印片从左侧门取出，然后换下一片压印基片，继续压印。