[发明专利]陶瓷脱墨剂、陶瓷件的脱墨方法和电子设备

权利要求书

1.一种陶瓷脱墨剂，其特征在于，包括60wt％-70wt％的溶胀溶剂、10wt％-20wt％的pH调节剂和10wt％-20wt％的表面活性剂。

2.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述溶胀溶剂包括第一溶胀剂和第二溶胀剂，所述第一溶胀剂包括醇类，所述第二溶胀剂包括二氯甲烷、三氯乙烷、苯乙烯和甲苯中的至少一种，所述第一溶胀剂和所述第二溶胀剂的质量比为1：(1-3)。

3.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述溶胀溶剂包括乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、正丁醇、二氯甲烷、三氯乙烷、苯乙烯和甲苯中的至少一种。

4.如权利要求2或3所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述乙醇和所述二氯甲烷的质量比为1：(1-3)。

5.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述pH调节剂包括碱性物质，所述碱性物质包括无机碱和有机碱中的至少一种；

所述无机碱包括氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠和碳酸氢钾中的至少一种；

所述有机碱包括胺类化合物和碱金属醇盐中的至少一种。

6.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述pH调节剂包括酸性物质，所述酸性物质包括无机酸和有机酸中的至少一种；

所述无机酸包括氢氟酸、碳酸、次氯酸、磷酸和亚硝酸中的至少一种；

所述有机酸包括乙酸、乙二酸、柠檬酸、酒石酸和氨基磺酸中的至少一种。

7.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述表面活性剂包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂和非离子表面活性剂中的至少一种；

所述阴离子表面活性剂包括十二烷基苯磺酸钠、十二烷基磺酸钠、十六烷基磺酸钠、正十六烷基硫酸钠和十八烷基硫酸钠中的至少一种；

所述阳离子表面活性剂包括十二烷基三甲基氯化铵、十二烷基三甲基溴化铵、十四烷基三甲基氯化铵、十四烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵和十六烷基三甲基溴化中的至少一种；

所述两性表面活性剂包括十二烷基氨基丙酸、烷基二甲基甜菜碱、十二烷基乙氧基磺基甜菜碱和十四烷基二羟乙基氧化胺中的至少一种；

所述非离子表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯和烷基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。

8.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述陶瓷脱墨剂还包括气味剂，所述气味剂的含量小于或等于3wt％。

9.如权利要求1所述的陶瓷脱墨剂，其特征在于，所述陶瓷脱墨剂的使用温度为40℃-80℃。

10.一种陶瓷件的脱墨方法，其特征在于，包括：

提供陶瓷件，所述陶瓷件的表面具有油墨层；

将所述陶瓷件置于权利要求1-9任一项所述的陶瓷脱墨剂中浸泡，去除所述油墨层，得到陶瓷基板。

11.如权利要求10所述的陶瓷件的脱墨方法，其特征在于，所述浸泡的温度为40℃-80℃，时间为5min-60min。

12.如权利要求10所述的陶瓷件的脱墨方法，其特征在于，所述油墨层通过热固型油墨固化形成。

13.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求10-12任一项所述的陶瓷件的脱墨方法获得的所述陶瓷基板。