[发明专利]一种医用装置及输送器在审
申请号: | 202111514082.8 | 申请日: | 2021-12-13 |
公开(公告)号: | CN113893061A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 朱清;赵明杰;马明洁;张博纬;屠春霖;朱永锋;姚禹;张军利;陈伊璐 | 申请(专利权)人: | 上海微创心脉医疗科技(集团)股份有限公司 |
主分类号: | A61F2/06 | 分类号: | A61F2/06;A61F2/07;A61F2/966 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 汪春艳 |
地址: | 201318 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 医用 装置 输送 | ||
本发明提供了一种医用装置及输送器,医用装置包括覆膜支架及输送器,覆膜支架包括支架本体、第一后释放连接件和缓释连接件;第一后释放连接件设在支架本体的近端;支架本体具有缓释区,缓释区在第一后释放连接件的远端侧,在周向上与第一后释放连接件相对应,缓释区设有缓释连接件;输送器包括管组件和第一控制件;管组件装载覆膜支架;第一控制件通过第一后释放连接件及缓释连接件与支架本体连接,并通过第一后释放连接件向支架本体的近端施加径向向内的拉力,以及通过缓释连接件向缓释区施加径向向内的拉力;释放覆膜支架时第一控制件依次第一后释放连接件及缓释连接件解除连接。该医用装置在用于弯曲血管的封堵治疗时,有效减轻鸟嘴现象。
技术领域
本发明涉及医疗器械技术领域,具体涉及一种医用装置及输送器。
背景技术
胸主动脉腔内修复术(TEVAR)是治疗主动脉夹层的有效手段,相比于传统的开胸手术,其具有创伤小、并发症少、患者术后恢复快的优势。TEVAR主要是利用覆膜支架封堵主动脉近端的内膜破口,改善真腔血供,并使真腔扩大,且降低假腔压力,诱导假腔血栓形成,使假腔减小以趋向闭塞,直至完成主动脉血供的形态重塑。
由于主动脉弓部的弯曲结构以及内膜破口位置的不确定性,尤其是主动脉弓弧度较为锐利的患者,覆膜支架很难与主动脉壁紧密贴合。如图1所示,当覆膜支架10的近端与主动脉壁不完全贴合而导致的覆膜支架10与血管壁的小弯侧之间存在楔形间隙20的现象被称之为“鸟嘴”效应。研究表明“鸟嘴”效应的出现及其形态与Ia型及IIa型内漏的发生显著相关,发生Ia型内漏或IIa型内漏的病人均出现了“鸟嘴”效应,且“鸟嘴”的长度明显大于无内漏的患者。
发明内容
本发明的目的在于提供一种医用装置及输送器,该医用装置应用于胸主动脉腔内修复术时,可以减轻甚至消除覆膜支架的“鸟嘴”效应,减少术后并发症,改善治疗效果。
为实现上述目的,本发明提供了一种医用装置,包括:
覆膜支架,包括支架本体、第一后释放连接件和缓释连接件;所述第一后释放连接件设置在所述支架本体的近端;所述支架本体具有一缓释区,所述缓释区位于所述第一后释放连接件的远端侧,且在周向上与所述第一后释放连接件对应设置,所述缓释区上设置所述缓释连接件;
输送器,包括管组件和第一控制件;所述管组件用于装载所述覆膜支架;所述第一控制件与所述管组件可活动地连接,所述第一控制件用于通过所述第一后释放连接件及所述缓释连接件与所述支架本体连接,并被配置用于通过所述第一后释放连接件向所述支架本体的近端施加径向向内的拉力,以及通过所述缓释连接件向所述缓释区施加径向向内的拉力;当所述第一控制件与所述支架本体解除连接时,所述第一控制件被配置为先与所述第一后释放连接件解除连接,再与所述缓释连接件解除连接。
可选地,所述覆膜支架用于植入一目标管腔,所述目标管腔具有弯曲段;所述缓释区是指当所述覆膜支架植入所述目标管腔时,所述支架本体与所述弯曲段的靠近曲率中心的腔壁抵接的区域。
可选地,所述支架本体包括多个支架环和覆膜,多个所述支架环沿所述支架本体的轴向间隔布置,所述覆膜附着于所述支架环上;所述缓释区位于最靠近近端的一个所述支架环的远端侧。
可选地,所述管组件包括内管和可活动地套装在所述内管外部的外管,所述内管与所述外管之间的空间用于装载所述覆膜支架;所述第一控制件用于部分地设置在所述覆膜支架与所述内管之间。
可选地,所述第一后释放连接件包括第一线圈,所述缓释连接件包括第二线圈;所述第一控制件包括第三线圈和第一控制导丝,所述第三线圈连接于所述内管上,并用于穿过所述第二线圈,所述第一控制导丝沿所述管组件的轴向延伸,且所述第一控制导丝的近端用于穿过所述第三线圈和所述第一线圈,以与所述第一后释放连接件及所述缓释连接件连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微创心脉医疗科技(集团)股份有限公司,未经上海微创心脉医疗科技(集团)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111514082.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。