[发明专利]显示面板及显示面板的制备方法在审
申请号: | 202111529147.6 | 申请日: | 2021-12-14 |
公开(公告)号: | CN114267775A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 杨超群 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/58 | 分类号: | H01L33/58;H01L33/44;H01L33/00 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 杨瑞 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底;
发光器件层,所述发光器件层设置在所述衬底上,所述发光器件层包括呈阵列排布的发光二极管,以及设置在相邻两发光二极管之间的挡墙;
第一光学结构层,所述第一光学结构层设置在所述发光器件层上,所述第一光学结构层包括开口区域,所述开口区域与所述发光二极管对应设置;
第二光学结构层,所述第二光学结构层设置在所述第一光学结构层上,并填充于所述开口区域,其中,所述第二光学结构层的折射率大于所述第一光学结构层的折射率;以及,
抗反射层,所述抗反射层设置在所述第二光学结构层之上。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述挡墙内设置有吸光粒子以及光扩散粒子。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述吸光粒子包括碳黑粒子或有机黑色粒子。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述光扩散粒子包括TiO2、ZrO2中的至少一种。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述光扩散粒子的粒径为100nm~300nm。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一光学结构层的折射率为1.1~1.5,所述第二光学结构层的折射率大于1.6。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括滤光层,所述滤光层设置在所述第二光学结构层与所述抗反射层之间,所述滤光层包括间隔设置的黑色矩阵层以及设置在所述黑色矩阵层之间的色阻层,所述色阻层与所述开口区域对应设置。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述挡墙的高度不大于所述发光二极管的高度。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一光学结构层还包括非开口区域,所述非开口区域与所述开口区域间隔设置,且所述非开口区域内对应的所述第一光学结构层的截面形状为梯形或弧形。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述梯形结构与所述发光器件层的表面之间形成的夹角为30°~50°。
11.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二光学结构层的厚度大于等于所述第一光学结构层的厚度。
12.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述开口区域的宽度大于等于相对应的所述发光二极管的宽度。
13.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述抗反射层的表面反射率小于6%。
14.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供一衬底;
在所述衬底上制备形成挡墙,所述挡墙间隔的设置在所述衬底上;
在相邻的挡墙之间设置发光二极管,对所述挡墙和所述发光二极管平坦化,以形成发光器件层;
在所述发光器件层上制备形成第一光学结构层,并在所述第一光学结构层上制备第二光学结构层,其中,所述第一光学结构层包括开口区域和非开口区域,所述开口区域与所述发光二极管对应设置,所述第二光学结构层填充于所述开口区域,且所述第一光学结构层的折射率于所述第二光学结构层的折射率不同;
在所述发光器件层上制备形成滤光层,并在所述滤光层上制备并形成抗反射层;
在所述抗反射层上制备保护层,并完成所述显示面板的制备。
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