[发明专利]自清洁陶瓷砖及其制备方法

说明书

本发明属于陶瓷砖制备技术领域，具体的涉及一种自清洁陶瓷砖及其制备方法。所述的自清洁陶瓷砖，包括陶瓷砖基体以及涂覆于陶瓷砖基体表面的自清洁涂层；所述的陶瓷砖基体由以下原料组成：高岭土、煅烧铝矾土、硅藻土、焦宝石、莫来石、菱镁矿、锂基蒙脱土、偏硅酸钙、硅酸锆、碳化硅；所述的自清洁涂层，包括以下原料：纳米氧化锌、纳米氧化铈、1H,1H,2H,2H‑十三氟辛基三甲基硅烷、二甲基硅油、十七氟癸基三乙氧基硅烷。本发明所述的自清洁陶瓷砖，陶瓷砖基体与自清洁涂层的结合力强，具有很好的耐高温性能和机械性能；自清洁涂层满足结构致密的同时，还具有优异的憎水性、憎油性、机械性能和耐腐蚀性。

技术领域

本发明属于陶瓷砖制备技术领域，具体的涉及一种自清洁陶瓷砖及其制备方法。

背景技术

陶瓷砖广泛用于室内及室外装饰，空气中的有机物很容易吸附在陶瓷砖表面，当有有机物粘附在陶瓷砖表面后，陶瓷砖很容易吸附空气中无机颗粒，造成陶瓷砖吸污变色，需要定时进行清洗，且陶瓷砖表面与灰尘粘结比较牢固，不容易清洁，需要特殊的溶液进行清洁。特别是建筑物的外墙砖表面清理通常需要进行高空作业，清洁难度大，清洁费用高。

为了解决陶瓷砖表面吸污的难题，有很多科研机构投入大量的人力进行研究，目前利用纳米二氧化钛在太阳光的照射下产生电子-空穴对，再与吸附在二氧化钛表面的水和氧气发生氧化还原反应生成氢氧自由基，具有高活性的氢氧自由基能够分解有机污染物，实现表面自清洁。然而这些应用在陶瓷砖上自清洁技术目前大部分停留在实验室阶段，很少在市场上得到推广应用。

当前市面上出现的自清洁陶瓷产品多为有釉亮光型大吸水率的产品，其基本工艺如下：有釉陶瓷经过高温烧成后，再经过后期加工如切割、抛光等工艺，表面具有一定光泽，其中，光泽度一般都是在70度以上，之后再用纳米氧化钛等自洁材料在陶瓷釉面上涂覆一层，最后干燥得到自清洁陶瓷产品，这种自清洁陶瓷产品具有自清洁功能。但是纳米氧化钛等自洁材料的涂层由于涂覆在平滑的釉层上，自清洁材料的涂层和釉层的结合力差，自清洁材料的涂层和釉层没有相互咬合，由于产品的热稳定性差而无法很好的应用。

发明内容

本发明的目的是：提供一种自清洁陶瓷砖。所述的自清洁陶瓷砖，陶瓷砖基体与自清洁涂层的结合力强，陶瓷砖基体经煅烧形成稳定的晶相结构，具有很好的耐高温性能和机械性能；本发明同时提供了其制备方法。

本发明所述的自清洁陶瓷砖，包括陶瓷砖基体以及涂覆于陶瓷砖基体表面的自清洁涂层；所述的陶瓷砖基体由以下原料组成：高岭土、煅烧铝矾土、硅藻土、焦宝石、莫来石、菱镁矿、锂基蒙脱土、偏硅酸钙、硅酸锆、碳化硅；所述的自清洁涂层，包括以下原料：纳米氧化锌、纳米氧化铈、1H,1H,2H,2H-十三氟辛基三甲基硅烷、二甲基硅油、十七氟癸基三乙氧基硅烷。

其中：

以重量份数计，所述的陶瓷砖基体由以下原料组成：高岭土25-30份、煅烧铝矾土18-22份、硅藻土15-20份、焦宝石5-7份、莫来石10-14份、菱镁矿8-12份、锂基蒙脱土3-5份、偏硅酸钙1-3份、硅酸锆3-5份、碳化硅0.5-2份。

优选的，以重量份数计，所述的陶瓷砖基体由以下原料组成：高岭土28-30份、煅烧铝矾土18-20份、硅藻土18-20份、焦宝石5-7份、莫来石12-14份、菱镁矿8-10份、锂基蒙脱土3-5份、偏硅酸钙1-3份、硅酸锆3-5份、碳化硅0.5-1.0份。

最为优选的，以重量份数计，所述的陶瓷砖基体由以下原料组成：高岭土28份、煅烧铝矾土20份、硅藻土18份、焦宝石5份、莫来石12份、菱镁矿8份、锂基蒙脱土3份、偏硅酸钙1.5份、硅酸锆4份、碳化硅1.0份。

以重量份数计，所述的自清洁涂层，包括以下原料：纳米氧化锌1-3份、纳米氧化铈1-3份、1H,1H,2H,2H-十三氟辛基三甲基硅烷0.22-0.25份、二甲基硅油0.03-0.06份、十七氟癸基三乙氧基硅烷0.15-0.22份。