[发明专利]一种基于滤波小孔调制的波前校正装置及方法在审
申请号: | 202111552248.5 | 申请日: | 2021-12-17 |
公开(公告)号: | CN114265199A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 杨朋千;姜卓偲;杨雪莹;朱健强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 张宁展 |
地址: | 201800 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 滤波 小孔 调制 校正 装置 方法 | ||
1.一种基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,该装置包括波前校正器(1)、聚焦光路(2)、滤波小孔(3)、成像系统(4)、传感器(5)和波前控制器(6);所述聚焦光路(2)与所述成像系统(4)共焦面,且F数互相匹配;
携带前级光路信息的波前依次经所述的波前校正器(1)和聚焦光路(2)传输后于滤波小孔(3)处聚焦,经滤波小孔(3)滤波后产生一理想点光源,再经成像系统(4)缩束成像至传感器(5);所述的传感器(5)采集此时的波前信息作为参考波前,并传输至波前控制器(6);移走滤波小孔(3)再次采集主激光的波前,利用所述的波前控制器(6)控制波前校正器(1)的面形,对采集到的焦斑进行优化处理,实现全系统静态波前的校正。
2.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述聚焦光路(1)的衍射极限为AD,所述滤波小孔(3)的直径为d,且d<1.2AD。
3.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述滤波小孔(3)位于聚焦光路(2)与成像系统(4)的焦面处。
4.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述传感器(5)与所述波前校正器(1)互为共轭面。
5.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述携带前级光路信息的波前的抖动频率为v1,滤波小孔的调制频率为v2,且v1<2v2。
6.一种利用权利要求1-5任一所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置进行波前校正的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:
步骤1,将滤波小孔(3)置于所述的聚焦光路(2)与成像系统(4)焦面处;
步骤2,调节成像系统(4)及传感器(5)的位置,使传感器(5)与波前校正器(1)互为共轭面;
步骤3,对滤波小孔(3)施加一个特定调制频率v2,且v1<2v2,其中,v1为携带前级光路信息的波前的抖动频率;传感器(5)采集此时的波前信息,记为w0,并将其设置为参考波前;
步骤4,移走滤波小孔(3),再次采集波前信息,此时采集到的波前为全系统的静态波前畸变,记为w1;
步骤5,利用所述的波前控制器(6)控制波前校正器(1)的面形,对全系统的静态波前畸变进行优化校正,当获得最佳焦斑时,波前校正器(1)产生的面形为w2;此时可获得全系统最小波前畸变,记为wmin,wmin=w1-w2。
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