[发明专利]一种基于滤波小孔调制的波前校正装置及方法在审

专利信息
申请号: 202111552248.5 申请日: 2021-12-17
公开(公告)号: CN114265199A 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 杨朋千;姜卓偲;杨雪莹;朱健强 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 滤波 小孔 调制 校正 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,该装置包括波前校正器(1)、聚焦光路(2)、滤波小孔(3)、成像系统(4)、传感器(5)和波前控制器(6);所述聚焦光路(2)与所述成像系统(4)共焦面,且F数互相匹配;

携带前级光路信息的波前依次经所述的波前校正器(1)和聚焦光路(2)传输后于滤波小孔(3)处聚焦,经滤波小孔(3)滤波后产生一理想点光源,再经成像系统(4)缩束成像至传感器(5);所述的传感器(5)采集此时的波前信息作为参考波前,并传输至波前控制器(6);移走滤波小孔(3)再次采集主激光的波前,利用所述的波前控制器(6)控制波前校正器(1)的面形,对采集到的焦斑进行优化处理,实现全系统静态波前的校正。

2.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述聚焦光路(1)的衍射极限为AD,所述滤波小孔(3)的直径为d,且d<1.2AD。

3.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述滤波小孔(3)位于聚焦光路(2)与成像系统(4)的焦面处。

4.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述传感器(5)与所述波前校正器(1)互为共轭面。

5.根据权利要求1所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置,其特征在于,所述携带前级光路信息的波前的抖动频率为v1,滤波小孔的调制频率为v2,且v1<2v2

6.一种利用权利要求1-5任一所述的基于滤波小孔调制的波前校正装置进行波前校正的方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:

步骤1,将滤波小孔(3)置于所述的聚焦光路(2)与成像系统(4)焦面处;

步骤2,调节成像系统(4)及传感器(5)的位置,使传感器(5)与波前校正器(1)互为共轭面;

步骤3,对滤波小孔(3)施加一个特定调制频率v2,且v1<2v2,其中,v1为携带前级光路信息的波前的抖动频率;传感器(5)采集此时的波前信息,记为w0,并将其设置为参考波前;

步骤4,移走滤波小孔(3),再次采集波前信息,此时采集到的波前为全系统的静态波前畸变,记为w1

步骤5,利用所述的波前控制器(6)控制波前校正器(1)的面形,对全系统的静态波前畸变进行优化校正,当获得最佳焦斑时,波前校正器(1)产生的面形为w2;此时可获得全系统最小波前畸变,记为wmin,wmin=w1-w2

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所,未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111552248.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top