[发明专利]晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法在审
申请号: | 202111568748.8 | 申请日: | 2021-12-21 |
公开(公告)号: | CN114238845A | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 杨亮亮;陈洪立;俞智勇;孙恩欢;王强 | 申请(专利权)人: | 江苏希太芯科技有限公司 |
主分类号: | G06F17/12 | 分类号: | G06F17/12;G06F17/16;G01B13/06 |
代理公司: | 南通国鑫智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 32606 | 代理人: | 顾新民 |
地址: | 226300 江苏省南通市南通高新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 薄膜 厚度 气流 传感器 温度 补仓 校正 算法 | ||
1.一种晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,根据传感器所测量温度T2,介电常数β1,测量晶圆薄膜厚度Y=β0+β1x1+α2T2+ε (1)
式中β0,β1,α2为常数,x1为介电常数,T2为温度常数,ε为误差补偿值;
由求期望公式可得,
EY=β0+β1x1+α2T2 (2)
记
对变量x1,T2,Y做n次观察得n组观察值:
(xi1,Ti2,yi)i=1,2,……n
若把相应于(xi1,Ti2)i=1,2,……n的Y的观察之看做随机变量,则可得
(xi1,Ti2,Yi)i=1,2,……n
进而可得
可将(3)式写成Y=[X T]β+ε (4)
该方程组所得到β0,β1,α2的值与真实值之间存在误差,为估计值;
因此,需要将上式处理,改写为
将该方程表示为矩阵形式,记A,B为如下矩阵,β的估计值为
A=xτx B=xτy
可以得到:
求得再用以下计算方式来对所得晶圆薄膜厚度的数据曲线,进行曲线矫正来提高曲线精度提高;
K1=h f(xi,yi)
K2=h f(xi+h,yi+K1)。
2.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,温度补偿测试结果通过进行实验获得实验数据,并将值带入式(1)。
3.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述x1的值为已知常数。
4.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述T2的值为已知常数。
5.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述矩阵A的值可计算所得。
6.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述矩阵B的值可计算所得。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏希太芯科技有限公司,未经江苏希太芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111568748.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。