[发明专利]晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法在审

专利信息
申请号: 202111568748.8 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114238845A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 杨亮亮;陈洪立;俞智勇;孙恩欢;王强 申请(专利权)人: 江苏希太芯科技有限公司
主分类号: G06F17/12 分类号: G06F17/12;G06F17/16;G01B13/06
代理公司: 南通国鑫智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 32606 代理人: 顾新民
地址: 226300 江苏省南通市南通高新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 测量 薄膜 厚度 气流 传感器 温度 补仓 校正 算法
【权利要求书】:

1.一种晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,根据传感器所测量温度T2,介电常数β1,测量晶圆薄膜厚度Y=β01x12T2+ε (1)

式中β0,β1,α2为常数,x1为介电常数,T2为温度常数,ε为误差补偿值;

由求期望公式可得,

EY=β01x12T2 (2)

对变量x1,T2,Y做n次观察得n组观察值:

(xi1,Ti2,yi)i=1,2,……n

若把相应于(xi1,Ti2)i=1,2,……n的Y的观察之看做随机变量,则可得

(xi1,Ti2,Yi)i=1,2,……n

进而可得

可将(3)式写成Y=[X T]β+ε (4)

该方程组所得到β0,β1,α2的值与真实值之间存在误差,为估计值;

因此,需要将上式处理,改写为

将该方程表示为矩阵形式,记A,B为如下矩阵,β的估计值为

A=xτx B=xτy

可以得到:

求得再用以下计算方式来对所得晶圆薄膜厚度的数据曲线,进行曲线矫正来提高曲线精度提高;

K1=h f(xi,yi)

K2=h f(xi+h,yi+K1)。

2.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,温度补偿测试结果通过进行实验获得实验数据,并将值带入式(1)。

3.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述x1的值为已知常数。

4.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述T2的值为已知常数。

5.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述矩阵A的值可计算所得。

6.根据权利要求1所述的晶圆测量中薄膜厚度测量气流传感器温度补仓校正算法,其特征在于,所述矩阵B的值可计算所得。

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