[发明专利]电源组件、电源控制方法和溅射设备

说明书

本申请公开一种本申请实施例的目的是提供一种电源组件、电源控制方法和溅射设备，电源组件包括第一电源、第二电源、拨码开关和电流测量件，所述第一电源和所述第二电源并联设置，所述第一电源配置为与控制主机通信连接，所述第二电源通过所述拨码开关与所述第一电源主从连接；所述第一电源和所述第二电源的正极接地设置，所述第一电源和所述第二电源的负极均配置为与安装于溅射设备的腔室的靶材电性连接；所述电流测量件配置为与所述靶材电性连接，且所述电流测量件与所述控制主机通信连接，以传输所述靶材的实际电流于所述控制主机。上述电源组件可以及时发现作为从电源的电源失效的情况。

技术领域

本申请属于半导体加工技术领域，具体涉及一种电源组件、电源控制方法和溅射设备。

背景技术

在溅射工艺过程中，对于设有硅通孔、铜阻挡层等结构的半导体而言，需要的溅射功率相对较大，目前的直流溅射电源的功率相对较小，进而需要多台电源并联，以同时为溅射工艺提供溅射功率。在组装电源时，通常设置其中一台电源为主电源，且利用拨码开关将另一电源设置为从电源，使两个电源形成主从模式。通过使主电源与控制主机通信连接，使控制主机与主电源之间可以进行数据交换、逻辑控制和报警信息输出等操作，使从电源的输出电压和输出电流与主电源保持一致。

在控制溅射功率的过程中，通常将功率等参数转换为2ⁿbit计算机数据，以电源为两台为例，将两台电源的总功率转换为对应的计算机数据，且将该计算机赋值给主电源，也即，主电源所对应的计算机数据代表的功率实际为主电源和从电源的功率之和。在实际工作时，根据溅射薄膜的所需厚度等参数能够对应确定目标溅射功率，且控制主机可以将该目标溅射功率转换为对应的计算机数据，且输送至主电源，使主电源和从电源一并工作，且输出目标功率。

但是，在工作过程中，可能出现从电源与主电源之间的通信中断，或者从电源电路断路等情况，导致主电源自主从模式切换至单电源模式，造成计算机数据从原本对应主电源和从电源的功率之和，切换至仅对应主电源自身的功率，进而，虽然主电源在接收到控制主机发送的计算机数据时，能够根据该计算机数据对应的工作，且向控制主机反馈同样的计算机数据，但是，由于电源的控制模式因从电源的失效而发生切换，导致实际输出的溅射功率仅为目标功率的一半，且由于控制主机和主电源之间交互的计算机数据的值并未发生改变，造成控制主机以及工作人员无法发现从电源失效这一情况，且导致工艺形成的溅射薄膜的厚度不能满足于预设厚度，导致晶圆不合格，甚至报废。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种电源组件、电源控制方法和溅射设备，可以及时发现作为从电源的电源失效的情况。

第一方面，本申请实施例公开一种电源组件，应用于溅射设备中，电源组件包括第一电源、第二电源、拨码开关和电流测量件，所述第一电源和所述第二电源并联设置，所述第一电源配置为与控制主机通信连接，所述第二电源通过所述拨码开关与所述第一电源主从连接；所述第一电源和所述第二电源的正极接地设置，所述第一电源和所述第二电源的负极均配置为与安装于溅射设备的腔室的靶材电性连接；所述电流测量件配置为与所述靶材电性连接，且所述电流测量件与所述控制主机通信连接，以传输所述靶材的实际电流于所述控制主机。

第二方面，本申请实施例公开一种电源组件，应用于溅射设备中，所述电源组件包括第一电源、第二电源、第三电源、拨码开关、电流测量件和电压测量件，

所述第一电源、所述第二电源和所述第三电源均并联设置，所述第一电源和所述第三电源均配置为与控制主机通信连接，所述第二电源通过所述拨码开关与所述第一电源主从连接；

所述第一电源和所述第二电源的正极接地设置，所述第一电源和所述第二电源的负极均配置为与安装于溅射设备的腔室的靶材电性连接；所述第三电源的正极通过第一开关接地设置，所述第三电源的负极配置为通过第二开关与安装于溅射设备的腔室的靶材电性连接，