[发明专利]离子束流分布的测定方法

权利要求书

1.一种离子束流分布的测定方法，其特征在于，包括：

将离子束流注入至测量阵列；其中，所述测量阵列包括呈阵列式排布的多个测量单元；

读取每一所述测量单元中的电流值，并将所述电流值大于零的所有所述测量单元定义为测量区域；

根据所述测量区域中每一所述测量单元的所述电流值，计算出每一所述测量单元接收的所述离子束流的密度；

至少根据所述离子束流的密度，计算出所述测量区域中的离子束流分布尺寸。

2.根据权利要求1所述的离子束流分布的测定方法，其特征在于，位于所述测量区域中最外一圈的多个所述测量单元为外圈部，剩余的多个所述测量单元为内圈部；其中，所述外圈部的所述测量单元中部分区域接收到所述离子束流，部分区域未接收到所述离子束流。

3.根据权利要求2所述的离子束流分布的测定方法，其特征在于，所述根据所述测量区域中每一所述测量单元的所述电流值，计算出每一所述测量单元接收的所述离子束流的密度，包括：

所述内圈部中的每一所述测量单元接收的所述离子束流的密度为：

J_（i,j）=I_（i,j）/S_（i,j）;

其中，J_（i,j）为所述测量区域中第i行第j列对应的所述测量单元接收的所述离子束流的密度，I_（i,j）为所述测量区域中第i行第j列对应的所述测量单元的电流值；S_（i,j）为所述测量单元的面积；

所述外圈部中的每一所述测量单元接收的所述离子束流的密度经与所述测量单元相邻接的所述内圈部中的所述测量单元接收的所述离子束流的密度拟合而成。

4.根据权利要求3所述的离子束流分布的测定方法，其特征在于，所述外圈部中的每一所述测量单元接收的所述离子束流的密度为：

J_（i,j）=a*i²+b*j²+c*i*j+d*i+e*j+f；

其中，J_（i,j）为所述测量区域中第i行第j列对应的所述测量单元接收的所述离子束流的密度，a、b、c、d、e和f为拟合常数。

5.根据权利要求2所述的离子束流分布的测定方法，其特征在于，多个所述测量单元相邻接，且各个所述测量单元的尺寸相同。

6.根据权利要求5所述的离子束流分布的测定方法，其特征在于，所述至少根据所述离子束流的密度，计算出所述测量区域中的离子束流分布尺寸，包括：

所述内圈部的宽度为：H₀=n*y；其中，H₀为所述内圈部的宽度，n为所述内圈部在宽度方向上排列的所述测量单元的个数，y为所述测量单元的宽度；

所述内圈部的长度为：L₀=m*x；其中，L ₀为所述内圈部的长度，m为所述内圈部在长度方向上排列的所述测量单元的个数，x为所述测量单元的长度。