[发明专利]一种用于异形屏的掩膜条结构及其制程方法

说明书

本发明公开了一种用于异形屏的掩膜条结构及其制程方法，包括金属掩膜条主体，金属掩膜条主体的两端中部设有开口向外的U型槽，金属掩膜条主体的表面设有若干组等间距分布的蚀刻区域，蚀刻区域包括呈圆形设置的有效区域和位于有效区域外侧的呈矩形设置的缓冲区域。有效区域采用双面蚀刻工艺，将金属掩膜条主体双面蚀刻后，产生通孔。缓冲区域采用双面蚀刻加单面填充工艺，在缓冲区域正面蚀刻出的凹槽中填充1‑3um的阻挡层。本发明可以提高用于异形屏的金属掩膜条主体张网良率，提高张网效率，本发明金属掩膜条主体的结构减缓异形屏的受力不均匀现象，解决褶皱问题，降低混色风险，改善混色现象。

技术领域

本发明属于异形屏技术领域，具体涉及一种用于异形屏的掩膜条结构及其制程方法。

背景技术

OLED显示面板具有厚度薄，功耗低，可弯曲及柔性显示等优势，近年来成为下一代面板显示器的发展趋势。

现有的OLED面板是在真空环境下利用蒸发源将有机材料加热后蒸发，有机材料透过金属掩膜条上开孔位置，在基板表面形成有机薄膜，成膜位置需是基板上被指定的发光位置，基板的电流才能有效传入OLED器件发光，所以需要金属掩膜条要有较高的位置精度以及稳定性，并且需与基板紧密贴合，防止有机材料蒸发到错误位置、产生混色现象。

目前主流的屏幕均是设计成矩形，金属掩膜条中的有效区域也需要与其配合设计成矩形，即两端的张力会比较均匀的施加在有效区域。在开发异形屏（圆形、菱形等）的时候，掩膜条的有效区域需设计成异形（圆形、菱形等），有效区域的两侧就会存在圆弧或者顶点，即两端张力在施加时会产生不同的张力效果，有效区域边缘受力不均匀，容易发生有效区域变形、位置偏移、产生褶皱等问题，直接影响了混色良率，这也是目前开发异形屏幕的难点之一。为此，我们提出一种用于异形屏的掩膜条结构及其制程方法，以解决上述背景技术中提到的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于异形屏的掩膜条结构及其制程方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于异形屏的掩膜条结构，包括金属掩膜条主体，所述金属掩膜条主体的两端中部设有开口向外的U型槽，所述金属掩膜条主体的表面设有若干组等间距分布的蚀刻区域，所述蚀刻区域包括呈圆形设置的有效区域和位于有效区域外侧的呈矩形设置的缓冲区域。

所述金属掩膜条主体的厚度为20-30um。

所述有效区域采用双面蚀刻工艺，将金属掩膜条主体双面蚀刻后，产生通孔，通孔作用是让有机材料通过。

所述缓冲区域采用双面蚀刻加单面填充工艺，在缓冲区域正面蚀刻出的凹槽中填充1-3um的阻挡层，阻挡层作用是阻挡有机材料的通过。

一种用于异形屏的掩膜条结构的制程方法，具体包括以下步骤：

S1、采用金属INVAR36材质制造金属掩膜条主体，金属掩膜条主体厚度为20-100um，不设限；

S2、设计第一种有效区域的石英光罩，确认该有效区域形状为目标异形；

S3、设计第二种缓冲区域的石英光罩，确认缓冲区域为异形屏四周的包围层，且包围层的蚀刻面积不设限制；

S4、采用第一种有效区域石英光罩，分别对金属掩膜条主体进行正面、背面蚀刻，确认该区域分布为通孔设计 ；

S5、完成有效区域的通孔蚀刻工艺；

S6、采用第二种缓冲区域石英光罩，首先对金属掩膜条主体进行正面蚀刻，产生凹槽，其深度设计在1-3um；

S7、采用第二种缓冲区域石英光罩，对掩膜条缓冲层的凹槽进行光阻填充，其厚度=1-3um；

S8、采用第二种缓冲区域石英光罩，对金属掩膜条主体缓冲层进行背面蚀刻，非通孔工艺结束；

S9、金属掩膜条主体的蚀刻区域的制程工艺结束。