[实用新型]一种离子束镀膜装置

权利要求书

1.一种离子束镀膜装置，其特征在于：包括真空镀膜室，所述真空镀膜室中设置有主离子源、靶材、辅助离子源和水平的转台；第一电机能够驱动转台自转；所述转台的顶面对称设置有两个夹持机构，每个所述夹持机构均包括与所述转台连接的支架、与所述支架的顶部转动连接的竖直的转盘和转动设置在所述转盘上的夹爪，两个所述转盘上的所述夹爪一一对应，通过对应的两个所述夹爪夹持工件，所述支架上设置有能够驱动所述转盘自转的第二电机，一个所述转盘内设置有能够驱动所述夹爪自转的第三电机。

2.根据权利要求1所述的离子束镀膜装置，其特征在于：所述支架通过滑台与所述转台表面上的滑轨滑动配合，所述滑台上设置有竖直的紧固螺钉，通过拧紧所述紧固螺钉能够使所述滑台与所述滑轨固连。

3.根据权利要求1所述的离子束镀膜装置，其特征在于：所述第一电机的输出轴上固设有第一主动齿轮，所述转台的转轴上固设有与所述第一主动齿轮啮合的第一从动齿轮；所述第二电机的输出轴上固设有第二主动齿轮，所述转盘的转轴上固设有与所述第二主动齿轮啮合的第二从动齿轮；所述第三电机的输出轴与所述夹爪固连。

4.根据权利要求1所述的离子束镀膜装置，其特征在于：所述真空镀膜室固设在机架上，所述真空镀膜室上设置有能够开启的密封门；所述真空镀膜室通过管路与真空泵连接；所述真空镀膜室一侧设置有进气口，所述进气口上设置有进气阀。

5.根据权利要求1所述的离子束镀膜装置，其特征在于：所述真空镀膜室内固设有铰接座，所述主离子源固设在所述铰接座上；所述真空镀膜室内的顶部固设有水平的滑杆，所述靶材、装夹台和第一滑块依次固连，所述辅助离子源与第二滑块固连，所述第一滑块和所述第二滑块分别与所述滑杆滑动配合。

6.根据权利要求5所述的离子束镀膜装置，其特征在于：所述主离子源和所述辅助离子源上分别包裹有冷却裹层，所述冷却裹层中设置有冷水通道，所述冷水通道的两端分别通过连接管与所述真空镀膜室顶端的冷水箱连接，且所述连接管上设置有水泵。