[实用新型]一种具有旋转功能的基片清洗设备

权利要求书

1.一种具有旋转功能的基片清洗设备，包括框架(1)，其特征在于：所述框架(1)的内部装配有排液排气单元(2)，所述框架(1)内腔中部固定装配有旋转真空台盘(3)，且旋转真空台盘(3)上表面吸附固定有基片(6)，所述框架(1)内部左侧装配有清洗单元(4)，所述排液排气单元(2)上部底面装配有风洗单元(5)。

2.根据权利要求1所述的一种具有旋转功能的基片清洗设备，其特征在于：所述排液排气单元(2)包括固定装配于框架(1)内腔上端的风机过滤器(21)，所述框架(1)内腔中部固定装配有盆体(22)，且盆体(22)底面右侧向下倾斜，所述盆体(22)底面右端固定连通有输送管道(23)，所述输送管道(23)的中部固定连通有液体排放管(24)，且液体排放管(24)下端固定连通有位于框架(1)内腔底面的废液容器(25)，所述废液容器(25)外壁下端固定连通有带阀排水管，所述输送管道(23)内腔左端均匀固定装配有过滤阀(26)，所述输送管道(23)左端固定装配有排风扇(27)，所述输送管道(23)与液体排放管(24)交界处设有挡水板(28)。

3.根据权利要求1所述的一种具有旋转功能的基片清洗设备，其特征在于：所述清洗单元(4)包括固定装配于框架(1)内腔左上端的增压泵(41)和电动推杆(42)，所述电动推杆(42)的右侧伸缩端固定装配有喷头(43)，且喷头(43)外壁固定装配于超声波发生器，所述增压泵(41)输出端与喷头(43)之间固定连通有弹性伸缩管(44)，所述增压泵(41)输入端固定连通有进水软管(45)的一端，且进水软管(45)另一端固定连通有位于框架(1)内腔底面的清洗液存储容器(46)。

4.根据权利要求2所述的一种具有旋转功能的基片清洗设备，其特征在于：所述风洗单元(5)包括横向开设于风机过滤器(21)外壳底面的滑轨(51)，所述滑轨(51)内滑动装配有直线模组(53)，所述滑轨(51)左右两端固定装配有限位块(52)，所述直线模组(53)底面通过伸缩杆固定装配有风枪(54)。

5.根据权利要求1所述的一种具有旋转功能的基片清洗设备，其特征在于：所述旋转真空台盘(3)包括固定装配于框架(1)内腔右侧的支撑臂(31)，所述支撑臂(31)左端铰接有旋转电机(32)，所述旋转电机(32)的上端固定装配有真空台盘(33)。