[实用新型]一种同质结薄膜气体传感器有效

专利信息
申请号: 202120474686.3 申请日: 2021-03-05
公开(公告)号: CN215339630U 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 赵新为 申请(专利权)人: 南京智慧基础设施技术研究院有限公司
主分类号: G01N27/414 分类号: G01N27/414
代理公司: 南京华恒专利代理事务所(普通合伙) 32335 代理人: 裴素艳
地址: 210012 江苏省南京*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 同质 薄膜 气体 传感器
【权利要求书】:

1.一种同质结薄膜气体传感器,其特征在于:包括从下至上依次设置的基板(1)、pn同质结氧化锌薄膜、电极层(4)、气敏层(5),所述pn同质结氧化锌薄膜包括n型半导体薄膜(2)以及形成在n型半导体薄膜(2)顶部的p型半导体薄膜(3)。

2.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述基板(1)采用FTO或ITO。

3.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述n型半导体薄膜(2)采用直接涂覆或溅射法形成在基板(1)上。

4.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述p型半导体薄膜(3)采用熔融盐处理法对n型半导体薄膜(2)上表层处理形成。

5.根据权利要求4所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述熔融盐处理法采用NaNO3、KNO3、NaCO3中一种或几种熔融盐混合进行处理;所述在n型半导体薄膜(2)上表层中掺杂有Na、K、Li、Rb、Mn、Cu、Ag中任一种或几种的组合。

6.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述n型半导体薄膜(2)和p型半导体薄膜(3)厚度不同。

7.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述n型半导体薄膜(2)和p型半导体薄膜(3)厚度相同。

8.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述电极层(4)、采用直接涂覆或溅射法形成在pn同质结氧化锌薄膜上,所述气敏层(5)采用直接涂覆或溅射法形成在电极层(4)上。

9.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述气敏层(5)的材质采用碳纳米管、二氧化钛、石墨烯及其衍生物、磷酸银中任一种或几种的组合。

10.根据权利要求1所述的同质结薄膜气体传感器,其特征在于:所述气敏层(5)设有防污保护层或防划伤硬度层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京智慧基础设施技术研究院有限公司,未经南京智慧基础设施技术研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120474686.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top