[实用新型]一种化学气相沉积用石英舟有效
申请号: | 202120754208.8 | 申请日: | 2021-04-14 |
公开(公告)号: | CN214797356U | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 戴贵平;侯佩佩;李梦超 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;C23C16/54 |
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地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 石英 | ||
1.一种化学气相沉积用石英舟,包括两个石英舟侧板(1),其特征在于,两个所述石英舟侧板(1)呈对称设置,两个石英舟侧板(1)之间一体式设置有四个第一支撑柱(2),第一支撑柱(2)的圆周外壁均开设有均匀分布的第一舟槽(3),所述第一支撑柱(2)呈圆周分布;所述石英舟侧板(1)呈等腰梯形结构,所述石英舟侧板(1)一侧外壁开设有滑槽(7),滑槽(7)呈螺旋状结构,且两个滑槽(7)内部滑动连接有同一个提拉杆(5),滑槽(7)的一端位于石英舟侧板(1)的中线上。
2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述提拉杆(5)中部一体式设置有两个对称的限位片(4)。
3.根据权利要求2所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述石英舟侧板(1)底部两侧外壁一体式设置有支撑脚(6)。
4.根据权利要求3所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述第一支撑柱(2)分别设置于石英舟侧板(1)四个角的位置,石英舟侧板(1)底角的角度控制在95~150°。
5.根据权利要求4所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述石英舟侧板(1)替换为半圆形结构,所述第一支撑柱(2)的数量为两个,且第一支撑柱(2)一体式设置于石英舟侧板(1)的两端,两个石英舟侧板(1)以及两个第一支撑柱(2)之间一体式设置有同一个弧形底板(8),弧形底板(8)呈与石英舟侧板(1)适配的弧面结构,所述弧形底板(8)顶部外壁一体式设置有第二支撑柱(10),第二支撑柱(10)上开设有第二舟槽(9),第二舟槽(9)与第一舟槽(3)相适配。
6.根据权利要求5所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述弧形底板(8)中心位置开设有开口(11),两个所述第二舟槽(9)位于开口(11)两侧。
7.根据权利要求6所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述弧形底板(8)一侧外壁开设有均匀分布的第三舟槽(12),第三舟槽(12)与第一舟槽(3)相适配。
8.根据权利要求7所述的一种化学气相沉积用石英舟,其特征在于,所述支撑脚(6)底端侧壁一体式设置有脚罩(13),脚罩(13)呈斗型结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造