[实用新型]一种高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置

说明书

本实用新型涉及一种高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置，包括运输机本体，所述运输机本体的内部包括有两个升降组件，两个所述升降组件分别位于运输机本体的前后两侧，所述运输机本体的底部设置有稳定结构，两个所述升降组件的内部均包括有升降板，两个所述升降板的底部均固定安装有底板，两个所述底板的顶部均固定安装有电机，两个所述电机的输出轴均通过联轴器固定连接有一端贯穿并延伸至升降板内部的动力杆，两个所述动力杆的外表面均固定安装有安装齿。该高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置，通过设置有升降组件，升降组件通过对固定板的升降进行调节，达到将运输机本体的高度进行调整的目的，增加了运输的实用性。

技术领域

本实用新型涉及靶材运输技术领域，具体为一种高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置。

背景技术

靶材是磁控溅射工艺制备功能薄膜过程中的基本耗材，靶材质量对薄膜的性能起着至关重要的作用，硅靶材是一种单质的溅射靶源，主要用于磁控溅射制备硅以及二氧，硅靶产品分为单晶硅靶和多晶硅靶，较单晶硅靶而言，多晶硅靶便于激发、成本较低且产量大，进一步提高多晶硅靶材的质量是现阶段的主要目标。

现有的多晶硅靶材的运输装置大多的高度都不能够进行调节，导致运输高度受限，大大降低了实用性，故而提出一种高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置来解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置，具备高度调节的优点，解决了现有的多晶硅靶材的运输装置大多的高度都不能够进行调节，导致运输高度受限，大大降低了实用性的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种高纯多晶硅靶材冶炼用输送装置，包括运输机本体，所述运输机本体的内部包括有两个升降组件，两个所述升降组件分别位于运输机本体的前后两侧，所述运输机本体的底部设置有稳定结构；

两个所述升降组件的内部均包括有升降板，两个所述升降板的底部均固定安装有底板，两个所述底板的顶部均固定安装有电机，两个所述电机的输出轴均通过联轴器固定连接有一端贯穿并延伸至升降板内部的动力杆，两个所述动力杆的外表面均固定安装有安装齿，两个所述升降板的内部均活动安装有一端延伸至其顶部的固定板，两个所述固定板的相对一侧分别与运输机本体的正反两侧固定连接，两个所述固定板的左右两侧均固定安装有限位块，所述限位块的外表面与升降板的内壁活动连接，两个所述底板的顶部均设置有一端延伸至固定板内部的升降杆，两个所述升降杆的外表面均固定安装有调节齿，两个所述调节齿的左侧底部分别与两个安装齿的右侧顶部相啮合。

进一步，所述稳定结构的内部包括有两个台板，两个所述台板之间设置有支撑柱，所述支撑柱的顶部与顶部台板的底部固定安装，底部所述台板的顶部固定安装有衔接柱，所述衔接柱的顶部延伸至支撑柱的内部，所述衔接柱的顶部与支撑柱的内顶壁之间固定安装有伸缩杆，所述衔接柱的外表面活动安装有弹簧，所述弹簧的顶部与支撑柱的底部固定连接，所述弹簧的底部与底部台板的顶部固定连接。

进一步，所述支撑柱的数量为两个，两个所述支撑柱之间固定连接有固定板。

进一步，两个所述升降板的顶部均缺失，两个所述升降板的左侧均开设有安装孔，两个所述安装孔的直径均与动力杆的直径大小相适配。

进一步，两个所述固定板的内部设置有螺纹槽，两个所述升降杆的外表面均开设有螺纹，两个所述升降杆的外表面分别与两个固定板的内表面为螺纹连接。

进一步，两个所述支撑柱的内部均设置有放置槽，两个所述放置槽的直径均与衔接柱的直径大小相适配。

进一步，两个所述升降板的内腔左右两侧壁均固定安装有滑轨，所述限位块的外表面与滑轨的内表面相接触。

与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：