[实用新型]一种坩埚吸料用保护装置

说明书

本实用新型提供一种坩埚吸料用保护装置，用于保护吸料工件，包括：载体；和与所述载体相对设置的盖体；所述盖体与所述载体围成一用于放置所述吸料工件的内腔；所述盖体能够在所述吸料工件被置于所述内腔时与所述载体一起被悬空吊装以使所述吸料工件在单晶炉主室内静置并完成对石英坩埚内剩余硅料的吸取，再与所述载体一起配合使载有硅料的所述吸料工件同步驶离所述副室。本实用新型可保护吸料工件不被磕碰或损伤，防止吸料工件因被吸硅料在凝固过程中的热膨胀而炸裂；还可保证吸料工件在密封的环境中吸取硅料和保存硅料，并可使硅料在吸料工件内凝固过程中保证吸料工件安全且平稳地悬空于单晶炉内。

技术领域

本实用新型属于单晶棒拉制中吸取锅底废料工艺的技术领域，尤其是涉及一种坩埚吸料用保护装置。

背景技术

当前为提高单晶硅棒拉制的产量，降低生产成本，常采用多次取段复投的方式进行拉制。而多次取段复投容易导致在石英坩埚内的剩余硅料出现金属杂质的聚集，使得下颗单晶硅棒中含有金属杂质较多，从而会降低其少子寿命，进而影响单晶品质及有效产量。而一旦出现少子寿命异常，需停炉清除石英坩埚内的锅底剩料，进而会增加开炉成本增加，延长拉制时间，亦需要多人配合清理锅底剩料。为降低单晶硅棒中的金属含量，提高被拉单晶硅棒的少子寿命，需在每次复投之前将锅底剩余硅料全部被吸取移走，即使用吸料工件将锅底省略吸干。

中国公开专利CN112538653A提出一种用于在线清理单晶炉内杂质底料的方法，直接是一体式的单层吸料装置，但这种结构极易在吊装过程中，容易与单晶炉主副室内腔壁磕碰出现裂纹，导致吸取后的硅料出现漏硅现象。同时由于吸料装置在下行从副室到主室途径两个温差范围较大的空间，容易导致吸管所受温差变化幅度大，当熔硅液流经吸管进入主腔中后极易造成腔室热胀冷缩，导致连接吸管或主腔出现爆裂，严重影响吸料效果，亦会使得主腔内收集到的硅料溅射，使吸料装置整体无法受到保护。

故，需要在吸取硅料的工件外部设置一防护装置，以保护内腔结构的安全性，并消化收集硅料的内腔产生的膨胀挤压压力，以降低其由热胀冷缩产生的压力变形，是本案发明的重点。

实用新型内容

本实用新型提供一种坩埚吸料用保护装置，用于放置吸料工件，解决了现有吸料装置结构设计不合理导致吸料过程中容易产生漏硅或爆裂的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种坩埚吸料用保护装置，用于保护吸料工件，包括：

载体；和

与所述载体相对设置的盖体；

所述盖体与所述载体围成一用于放置所述吸料工件的内腔；

所述盖体能够在所述吸料工件被置于所述内腔时与所述载体一起被悬空吊装以使所述吸料工件在单晶炉主室内静置并完成对石英坩埚内剩余硅料的吸取，再与所述载体一起配合使载有硅料的所述吸料工件同步驶离所述副室。

进一步的，所述盖体与所述载体可拆卸连接，所示盖体下端口与所述载体上端口配合；

当所述盖体与所述载体配合后形成的所述内腔为封闭结构。

进一步的，所述盖体与所述载体配合形成一直壁式圆柱体结构。

优选地，所述盖体包裹于所述载体配合；或者

内嵌于所述载体设置。

进一步的，在所述盖体上端面设有与所述副室中的重锤相适配的配置槽；

所述配置槽为阶梯式结构；

且所述配置槽下端面距离所述内腔在所述盖体中的位置有一定距离。

进一步的，所述内腔的高度大于其横截面直径。

优选地，所述内腔直径是其高度的3/4-4/5。