[实用新型]一种新型晶片清洗流水线

权利要求书

1.一种新型晶片清洗流水线，其特征在于：所述的新型晶片清洗流水线包括晶片提篮上料输送机构、晶片超声波清洗机、晶片提篮下料输送机构和晶片烘烤箱，晶片依次排放设置于镀膜夹具上，晶片提篮上设置有多个用于排放镀膜夹具的工位腔，晶片提篮通过提篮框在所述的晶片提篮上料输送机构以及晶片提篮下料输送机构输送；

所述的晶片提篮上料输送机构的尾部与所述的晶片超声波清洗机的入口衔接，晶片超声波清洗机的出口与所述的晶片提篮下料输送机构衔接，晶片提篮上料输送机构上的提篮框通过设置于晶片提篮上料输送机构尾部的第一气缸顶升机构输送至所述的晶片超声波清洗机，晶片超声波清洗机上的提篮框通过设置于晶片提篮下料输送机构头部的第二气缸顶升机构输送至所述的晶片提篮下料输送机构中。

2.根据权利要求1所述的一种新型晶片清洗流水线，其特征在于：所述的第一气缸顶升机构和第二气缸顶升机构均包括气缸，气缸设置于正对提篮框的下方，通过气缸将提篮框顶升至晶片超声波清洗机中的内部循环清洗装置中的循环工位上，通过晶片超声波清洗机对提篮框中的晶片进行清洗，清洗完成后提篮框从晶片超声波清洗机的出料工位中被另一侧的第二气缸顶升机构顶住下放，通过晶片提篮下料输送机构输送。

3.根据权利要求2所述的一种新型晶片清洗流水线，其特征在于：所述的晶片清洗流水线还包括过渡输送机构，过渡输送机构设置于晶片提篮下料输送机构的尾部，晶片提篮下料输送机构上的提篮框通过抓取机构输送至过渡输送机构，过渡输送机构与烘烤箱配合设置。

4.根据权利要求3所述的一种新型晶片清洗流水线，其特征在于：所述的抓取机构包括横移驱动机构、升降驱动机构和抓取气缸，所述的横移驱动机构固定安装于机架上，横移驱动机构上设置有向上悬伸并设置有正对所述的提篮框的横移架，所述的升降驱动机构安装于横移架上，抓取气缸安装于升降驱动机构上，抓取气缸抓取提篮框后通过升降驱动机构抬升后，通过横移驱动机构横移完成设备之间的转运。

5.根据权利要求4所述的一种新型晶片清洗流水线，其特征在于：所述的晶片提篮上料输送机构、晶片提篮下料输送机构和晶片烘烤箱以及过渡输送机构上均设置有通过传动轮带动驱动的输送皮带回路。