[实用新型]晶圆级光学双模压模组有效
申请号: | 202121635160.5 | 申请日: | 2021-07-19 |
公开(公告)号: | CN214956894U | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 王吉;徐群;曹培红 | 申请(专利权)人: | 王吉;徐群;曹培红 |
主分类号: | H01L31/0203 | 分类号: | H01L31/0203;H01L31/0216;H01L31/12;H01L33/52;H01L33/44 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人: | 徐磊 |
地址: | 新加坡兀兰8*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆级 光学 双模 模组 | ||
1.一种晶圆级光学双模压模组,其特征在于,包括:
基板;
晶粒,安装在所述基板上;
第一模压层,包围在所述晶粒外,所述第一模压层为透明胶液层;
红外镀膜层,包围在所述第一模压层外,所述红外镀膜层使红外光穿过所述红外镀膜层;
第二模压层,包围在所述红外镀膜层的四周及部分顶部,所述第二模压层的顶部具有一供光线穿过的开口,所述第二模压层为黑色胶液层。
2.如权利要求1所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,所述基板上沿所述红外镀膜层四周具有一圈凹槽,所述第二模压层底部延伸至所述凹槽内。
3.如权利要求1所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,所述透明胶液层中具有红外滤波材料。
4.如权利要求1所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,所述透明胶液层为环氧层或者硅胶层。
5.如权利要求1所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,所述晶粒的数量仅为一个。
6.如权利要求5所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,所述晶粒为发射芯片或者为接收芯片。
7.如权利要求1所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,所述晶粒的数量为两个。
8.如权利要求7所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,两个所述晶粒均为发射芯片或者均为接收芯片。
9.如权利要求7所述的晶圆级光学双模压模组,其特征在于,其中一个所述晶粒为发射芯片,另一个所述晶粒为接收芯片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的