[实用新型]碳化硅晶圆化学机械抛光装置

权利要求书

1.一种碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，包括：

抛光垫；

用于固定碳化硅晶圆的晶圆保持器；

相对于所述抛光垫可活动地设置的抛光头；

相对于所述抛光垫可移动地设置的移动装置和清洗装置；

其中，所述晶圆保持器被配置为可选择地与所述抛光头或所述移动装置连接；

在所述晶圆保持器与所述抛光头连接时，所述晶圆保持器被配置为在所述抛光头的带动下可活动地抵持于所述抛光垫，以对所述碳化硅晶圆抛光；

在所述晶圆保持器与所述移动装置连接时，所述晶圆保持器被配置为在所述移动装置的带动下远离所述抛光垫，以使所述碳化硅晶圆与所述抛光垫相间隔，所述清洗装置被配置为在所述晶圆保持器远离所述抛光垫时，清洗所述碳化硅晶圆、所述晶圆保持器和所述抛光垫。

2.根据权利要求1所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述晶圆保持器为陶瓷盘，具有相对的吸附面和连接面，所述吸附面用于吸附碳化硅晶圆，所述连接面被配置为可选择地与所述抛光头或所述移动装置连接。

3.根据权利要求1所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述移动装置包括：

第一机械臂；

取放部，设置于所述第一机械臂，所述晶圆保持器被配置为可选择地与所述抛光头和所述取放部连接；

第一驱动机构，与所述第一机械臂传动连接，被配置为在所述取放部与所述晶圆保持器连接时，驱动所述第一机械臂远离所述抛光垫，以使所述取放部带动所述晶圆保持器远离所述抛光垫。

4.根据权利要求3所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述取放部为吸盘。

5.根据权利要求3所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述移动装置包括并列间隔布置的至少两个所述第一机械臂，每个所述第一机械臂均设置有至少一个所述取放部。

6.根据权利要求5所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述移动装置包括并列间隔布置的两个所述第一机械臂。

7.根据权利要求1所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述清洗装置包括：

第二机械臂；

设置于所述第二机械臂的第一喷嘴和第二喷嘴，所述第一喷嘴被配置为在所述晶圆保持器远离所述抛光垫时，清洗所述碳化硅晶圆和所述晶圆保持器，所述第二喷嘴被配置为在所述晶圆保持器远离所述抛光垫时，清洗所述抛光垫；

第二驱动机构，与所述第二机械臂连接，被配置为在所述移动装置与所述晶圆保持器连接时，驱动所述第二机械臂靠近所述抛光垫和所述晶圆保持器。

8.根据权利要求7所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述清洗装置包括并列间隔布置的至少两个所述第二机械臂，每相邻两个所述第二机械臂的其中一个设置有所述第一喷嘴，每相邻两个所述第二机械臂的另一个设置有所述第二喷嘴。

9.根据权利要求8所述的碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，所述清洗装置包括并列间隔布置的两个所述第二机械臂，一个所述第二机械臂设置有至少一个所述第一喷嘴，另一个所述第二机械臂设置有至少一个所述第二喷嘴。

10.一种碳化硅晶圆化学机械抛光装置，其特征在于，包括：

抛光垫；

用于固定碳化硅晶圆的晶圆保持器；

相对于所述抛光垫可活动地设置的抛光头；

相对于所述抛光垫可移动地设置的移动装置和清洗装置；

其中，所述晶圆保持器被配置为可选择地与所述抛光头或所述移动装置连接；

所述抛光头被配置为与所述晶圆保持器连接时，带动所述晶圆保持器可活动地抵持于所述抛光垫；

所述移动装置被配置为与所述晶圆保持器连接时，带动所述晶圆保持器远离所述抛光垫，以供所述清洗装置清洗所述碳化硅晶圆、所述晶圆保持器和所述抛光垫，并在清洗装置清洗后，将所述晶圆保持器放置于所述抛光垫上并与所述晶圆保持器分离。