[实用新型]半导体MOS器件的封装结构有效

专利信息
申请号: 202121809538.9 申请日: 2021-08-04
公开(公告)号: CN215496688U 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 田伟;廖兵 申请(专利权)人: 苏州达晶半导体有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/495;H01L29/78;H01L23/31
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 王健
地址: 215163 江苏省苏州市高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 半导体 mos 器件 封装 结构
【权利要求书】:

1.一种半导体MOS器件的封装结构,其特征在于:包括:MOS芯片(1)、铜支撑框架(2)、栅极引脚(3)、漏极引脚(4)和源极引脚(5),位于所述MOS芯片(1)上表面的栅极区(101)、漏极区(102)和源极区(103)分别通过第一金属线(61)、第二金属线(62)和第三金属线(63)电连接到栅极引脚(3)、 漏极引脚(4)和源极引脚(5)各自的焊接端,所述铜支撑框架(2)上具有一镂空区(13),所述MOS芯片(1)位于一导热陶瓷片(8)的上表面;

所述导热陶瓷片(8)的下表面具有一凸起台(14),所述导热陶瓷片(8)的凸起台(14)嵌入铜支撑框架(2)的镂空区(13)内,所述铜支撑框架(2)与MOS芯片(1)相背的表面在镂空区(13)两侧均设置有一条形铜凸部(15),一环氧封装体(9)包覆于MOS芯片(1)、铜支撑框架(2)和栅极引脚(3)、 漏极引脚(4)和源极引脚(5)各自的焊接端上,所述条形铜凸部(15),所述条形铜凸部(15)、凸起台(14)各自的下表面与环氧封装体(9)的下表面齐平。

2.根据权利要求1所述的半导体MOS器件的封装结构,其特征在于:所述铜支撑框架(2)的上部具有一从环氧封装体(9)上端面延伸出的外延片区(11)。

3.根据权利要求1所述的半导体MOS器件的封装结构,其特征在于:所述第一金属线(61)、第二金属线(62)和第三金属线(63)为铜金属线或者铝金属线。

4.根据权利要求1所述的半导体MOS器件的封装结构,其特征在于:所述镂空区(13)形状为方形或者圆形,所述凸起台(14)形状为方形或者圆形。

5.根据权利要求1所述的半导体MOS器件的封装结构,其特征在于:所述条形铜凸部(15)与凸起台(14)之间的间隙(7)内填充有环氧封装体(9)。

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