[实用新型]一种射频离子源中和器的电极有效
申请号: | 202122158259.7 | 申请日: | 2021-09-08 |
公开(公告)号: | CN216161685U | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 王伟;张勇军;卢成 | 申请(专利权)人: | 成都国泰真空设备有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J37/32;C23C14/32 |
代理公司: | 成都其高专利代理事务所(特殊普通合伙) 51244 | 代理人: | 贾波 |
地址: | 610000 四川省成都市温江*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 射频 离子源 中和 电极 | ||
本实用新型公开了一种射频离子源中和器的电极,所述电极为非闭环的杯状体,在杯状体的环上设置有两个以上缺口,在所述杯状体的环上,缺口设置有2N‑1个,其中,N为不含0和1的自然数;其中一个缺口开口中线与环口的开口中线为同一中线;剩余缺口中以环的中心线为对称轴,相对的两个缺口的开口中线为同一中线,解决现有技术的不足之处,将该电极应用到射频离子源中和器中,能够使得更多的射频能量进入陶瓷杯内,增加离化效率,又不是很大的减少电子发射的效率。
技术领域
本实用新型涉及等离子镀膜设备设备技术领域,具体地说,是一种射频离子源中和器的电极。
背景技术
在现有镀膜设备中,大多数薄膜结构都对牢固度及附着力有要求,如果不达标,将会导致薄膜脱落等现象。为了改善该问题必须进行高能的宽束离子源的辅助沉积,而离子源对于中和要求极其严格,若中和不好将会导致真空环境打火,离子斥力加强,而影响薄膜的基本及外观结构,传统的电子中和方式有热阴极中和器、空心阴极中和器、化合物中和器,但这几种在污染及使用成本方面也是有一定的弊端。因此射频离子源中和器及在这几方面有了很大的改善与性能提升。
现有射频离子源中和器主要由保持极、射频线圈、陶瓷杯、电极(亦称电子发射电极)、充气座、电极接头等所构成,但现有结构的电子发射电极为杯状体,且为单一缺口结构,由于采用单一缺口的结构,存在射频能量利用率低,从而导致离化效率低的不足之处。
实用新型内容
本实用新型的目的在于设计一种射频离子源中和器的电极,解决现有技术的不足之处,将该电极应用到射频离子源中和器中,能够使得更多的射频能量进入陶瓷杯内,增加离化效率,又不是很大的减少电子发射的效率。
本实用新型通过下述技术方案实现:一种射频离子源中和器的电极,所述电极为非闭环的杯状体,在杯状体的环上设置有两个以上缺口。
进一步的为更好地实现本实用新型,特别采用下述设置方式:在所述杯状体的环上,缺口设置有2N-1个,其中,N为不含0和1的自然数;其中一个缺口开口中线与环口的开口中线为同一中线;剩余缺口中以环的中心线为对称轴,相对的两个缺口的开口中线为同一中线。
进一步的为更好地实现本实用新型,特别采用下述设置方式:所述缺口的长度小于等于环口的长度。
进一步的为更好地实现本实用新型,特别采用下述设置方式:所述电极上通入负电场。
本实用新型与现有技术相比,具有以下优点及有益效果:
本实用新型解决现有技术的不足之处,将该电极应用到射频离子源中和器中,能够使得更多的射频能量进入陶瓷杯内,增加离化效率,又不是很大的减少电子发射的效率。
采用本实用新型的射频离子源中和器,相较于传统的电子中和器,在材料挥发刻蚀方面会更小,且温度上升小,使用成本得到有效降低;
一般的灯丝使用时间几十个小时,空心阴极管一百多个小时,该实用新型所提出的电极可达到一年以上的使用时间。
附图说明
图1为采用本实用新型的射频离子源中和器结构示意图。
图2为本发明的结构示意图(上图为正视图,下图为上图的A-A向视图)。
其中,1-保持极、2-射频线圈、3-陶瓷杯、4-电极、5-充气座、6-电极接头、41-环口、42-缺口、43-环。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作进一步地详细说明,但本实用新型的实施方式不限于此。
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