[实用新型]盖子上料装置有效
申请号: | 202122664780.8 | 申请日: | 2021-11-03 |
公开(公告)号: | CN216234820U | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 孙烈冰 | 申请(专利权)人: | 泰马克精密铸造(苏州)有限公司 |
主分类号: | B65G47/91 | 分类号: | B65G47/91 |
代理公司: | 苏州曼博专利代理事务所(普通合伙) 32436 | 代理人: | 宋俊华 |
地址: | 215000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盖子 装置 | ||
本实用新型公开了一种盖子上料装置,包括与上料滑轨滑动配合的有上料滑座;上料滑座底部设有竖置电缸,电缸的伸缩杆底端设有平置压板;压板底面设有平置弹性环;弹性环的底面开设有可与盖子侧周壁插接的环形插槽,环形插槽与弹性环共轴心,环形插槽的深度大于盖侧壁顶边缺口的深度;压板底面还设有多个透气孔,该多个透气孔位于弹性环的内圈中;压板顶面设有一对快速接头:抽气接头和供气接头;压板内部还设有将该对快速接头与上述多个透气孔连通的内部通道;抽气接头外接抽气软管,供气接头外接供气软管;抽气软管上设有抽气电磁阀;供气软管上设有供气电磁阀。本实用新型盖子上料装置,其能转移开口朝上放置且盖侧壁顶边有缺口的盖子。
技术领域
本实用新型涉及盖子上料装置。
背景技术
注塑生产出来的盖子需要进行等离子表面处理,一般采用上料装置将盖子送入等离子表面处理装置。上料装置一般包括:上料滑轨,与上料滑轨滑动配合的上料滑座,驱动上料滑座沿上料滑轨滑动的平移驱动装置,以及设于上料滑座底部的可升降吸盘。等离子表面处理装置的外部设有上料位,等离子表面处理装置的内部设有处理位。上料滑轨由上料位的正上方延伸至处理位的正上方。一般将待处理的盖子放在上料位上,且使盖子开口朝下;然后平移驱动装置驱动上料滑座移动至上料位正上方,然后可升降吸盘下移将上料位上的盖子吸起,然后平移驱动装置驱动上料滑座沿上料滑轨移动至处理位正上方,然后可升降吸盘下移将盖子放下至处理位上,且处理位上的盖子开口朝下,然后等离子表面处理装置对处理位上的盖子进行等离子表面处理。
盖子一般包括:平置的圆形盖底,以及由盖底边沿向上延伸出的竖置圆筒形盖侧壁。处理位上的盖子开口朝下放置时,等离子表面处理装置只能对盖底的外表面和盖侧壁的外周面进行等离子表面处理。若需要对盖底的内表面和盖侧壁的内周面进行等离子表面处理,则处理位上的盖子就要开口朝上放置,这就需要先将盖子开口朝上放置在上料位。
而有些盖子的盖侧壁上有缺口,盖子开口朝上放置时,盖侧壁上的缺口位于盖侧壁的顶边。若可升降吸盘下移吸取开口朝上放置的盖子时,吸盘仅与盖侧壁的顶边接触,而盖侧壁的顶边又有缺口,此时,虽然吸盘压在盖侧壁的顶边上,但盖子内腔仍然通过盖侧壁顶边的缺口与外部连通,故吸盘就无法将盖侧壁顶边有缺口的盖子吸起。
实用新型内容
为解决现有技术的缺陷,本实用新型提供一种盖子上料装置,包括平置的上料滑轨,上料滑轨上设有上料滑座,上料滑座与上料滑轨滑动配合;上料滑座配有驱动其沿上料滑轨滑动的平移驱动装置;
所述上料滑座底部固设有竖置的电缸,电缸的伸缩杆朝下竖直伸出,且伸缩杆的底端固接有平置圆形压板,压板与伸缩杆共轴心;
所述压板的底面固设有平置弹性环,弹性环与压板共轴心;
所述弹性环的底面开设有可与盖子侧周壁插接的环形插槽,环形插槽与弹性环共轴心,环形插槽的深度大于盖侧壁顶边缺口的深度;
所述压板底面还设有多个透气孔,该多个透气孔位于弹性环的内圈中;压板顶面设有一对快速接头:抽气接头和供气接头;压板内部还设有将该对快速接头与上述多个透气孔连通的内部通道;抽气接头外接抽气软管,供气接头外接供气软管;抽气软管上设有抽气电磁阀;供气软管上设有供气电磁阀。
优选的,所述平移驱动装置为直线电机。
优选的,上述多个透气孔沿弹性环的周向均布。
优选的,上述多个透气孔靠近弹性环。
优选的,所述抽气接头、供气接头以伸缩杆对称设置。
优选的,所述抽气接头通过抽气软管连接抽气装置。
优选的,所述供气接头通过供气软管连接供气装置。
优选的,所述抽气电磁阀靠近抽气接头。
优选的,所述供气电磁阀靠近供气接头。
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