[实用新型]一种具有磁化冷却水装置的磁控溅射设备有效
申请号: | 202122712843.2 | 申请日: | 2021-11-08 |
公开(公告)号: | CN216107171U | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 谢聪敏 | 申请(专利权)人: | 江苏乾靓新材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙) 32411 | 代理人: | 柳强 |
地址: | 224500 江苏省盐城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 磁化 冷却水 装置 磁控溅射 设备 | ||
本实用新型公开了一种具有磁化冷却水装置的磁控溅射设备,包括磁控溅射机构,磁控溅射机构的一侧固定连接有磁化箱,磁化箱的一侧固定连接有进水管道,磁化箱的内侧可拆卸安装有磁化机构,磁化机构包括永磁盘、固定连接于永磁盘外侧的固定盘、连接于永磁盘一侧的电控磁铁,电控磁铁的输入端电性连接有控制器,磁化机构之间相对分布,磁化箱的内腔安装有分流板;上述方案中,通过磁化机构的作用,在进行冷却水的磁化过程中,可以通过电控磁铁和永磁盘的相互配合,使得磁感线的密度大小可以利用调控通过电控磁铁的电流进行控制,以此实现不同水流量情况下能够保证冷却水的充分磁化,提高了冷却水的磁化效率。
技术领域
本实用新型涉及半导体设备技术领域,具体为一种具有磁化冷却水装置的磁控溅射设备。
背景技术
溅射镀膜技术是物理气相沉积技术的一种,它是指在真空条件下,利用获得能量的粒子轰击靶材表面,使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸并最终沉积到基板表面的过程。由于其具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,因而广泛应用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料的膜层。磁控溅射镀膜过程中,入射粒子在靶中经历复杂的散射,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联反应,此过程中能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而导致整个靶源熔化,故冷却是磁控溅射设备中非常重要的课题。
现有的技术方案中,会通过磁化装置对工艺冷却水进行磁化处理,以使冷却水的酸碱度呈中性,并降低冷却水的结合能力及表面张力,使冷却水的电导率降低,而现有的磁化装置都是由两个磁力板来形成磁化用的磁场的,水流在磁场中流动时,水流外表面与磁场的接触面积过低会与影响磁化效率。
实用新型内容
本实用新型旨在解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
为此,本实用新型所采用的技术方案为:一种具有磁化冷却水装置的磁控溅射设备,包括磁控溅射机构,所述磁控溅射机构的一侧固定连接有磁化箱,所述磁化箱的一侧固定连接有进水管道,所述磁化箱的内侧可拆卸安装有磁化机构,所述磁化机构包括永磁盘、固定连接于永磁盘外侧的固定盘、连接于永磁盘一侧的电控磁铁,所述电控磁铁的输入端电性连接有控制器,所述磁化机构之间相对分布。
本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述磁化箱的内腔安装有分流板,所述分流板的外侧开设有若干分流孔,所述分流板的另一侧与进水管道的一侧相互连通。
通过采用上述技术方案,利用所述分流板和分流孔的设置,在使用的过程中,通过分流板内腔中的水流可以利用分流板一侧开设的若干分流孔来达到分流效果,使得水流能够分割成若干细小的水流束,分隔开来的水流束经过磁场能够加大水流与磁场的接触面积,进一步提高冷却水的磁化效率。
本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述固定盘的一侧固定连接有安装环,所述电控磁铁位于安装环的内侧,所述安装环的外侧开设有安装槽,所述安装槽的内侧可拆卸安装有安装盖。
通过采用上述技术方案,利用安装环的设置,将电控磁铁布置于安装环的内侧,使得安装环能够将电控磁铁进行有效的固定,防止电控磁铁偏移,同时,位于安装环内腔中的电控磁铁能够利用安装环进行有效的保护,避免电控磁铁受损。
本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述分流板的外侧设有螺旋条,所述螺旋条的外侧与磁化箱的内侧转动连接。
通过采用上述技术方案,利用分流板外侧设置的螺旋条,使得分流板便于拆卸与安装,在分流孔出现堵塞时,能够快速的将分流板进行拆卸更换,便于水流的正常通行。
本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述磁化箱的内腔中可拆卸安装有安装架,所述安装架的内侧滑动连接有磁化板,所述磁化板之间相对分布。
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