[实用新型]一种化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 202123092169.9 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN216759447U | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 袁黎光;肖亮锋;王杰;刘健;石鑫;杨小牛 | 申请（专利权）人： | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 李远星 |
| 地址： | 510700 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光垫，其特征在于，包括第一抛光层和第二抛光层；所述第二抛光层设置在所述第一抛光层上；所述第二抛光层为棱柱阵列层，包括若干阵列排布的棱柱，且相邻的棱柱之间形成具有沟槽；所述第一抛光层与所述第二抛光层的材料相同或不同。
2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第二抛光层与所述第一抛光层之间具有粘接层；所述第二抛光层通过所述粘接层粘贴在所述第一抛光层的表面上。
3.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第一抛光层与所述第二抛光层的材料相同，且为聚氨酯。
4.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第一抛光层为圆形，面积为Sa，且280000mm2≤Sa≤2100000mm2。
5.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第一抛光层的厚度为H1，且0.5≤H1≤3mm。
6.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第一抛光层的硬度为R1，且20D≤R1≤40D；所述第二抛光层的硬度为R2，且R1≤R2≤41D。
7.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第二抛光层的总面积为Sb，所述第一抛光层的面积为Sa，且0.70≤Sb/Sa≤0.95。
8.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述第二抛光层的厚度为H2，且0.5≤H2≤2mm。
9.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述沟槽的宽度为W，且0.2mm≤W≤1.5mm。
10.根据权利要求1～9任一项所述的一种化学机械抛光垫，其特征在于，所述棱柱为多边形棱柱。
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