[发明专利]光源装置、光源装置的制造方法以及电子设备

权利要求书

1.光源装置，包括：

基板；

光生成元件，其设置在所述基板的第一面上，所生成的光经由所述基板从位于所述第一面的相反侧的第二面出射；和

透镜，其设置在所述基板的所述第二面中的与所述光生成元件相对应的位置处，且用于扩大数值孔径。

2.根据权利要求1所述的光源装置，其中，

所述透镜是凹透镜。

3.根据权利要求1所述的光源装置，其中，

所述透镜是设置于所述基板的所述第二面中的凹部。

4.根据权利要求3所述的光源装置，还包括：

防反射膜，其设置在所述凹部的内表面上，且用于防止来自所述第一面的光的反射。

5.根据权利要求3所述的光源装置，还包括：

低折射率膜，其设置在所述凹部内，并且具有比所述基板的折射率更低的折射率，

其中，所述基板的除所述凹部以外的区域跟所述低折射率膜的表面形成平面。

6.根据权利要求1所述的光源装置，还包括：

一层以上的功能性膜，其设置在所述基板的所述第二面上且位于不含所述透镜所在区域的透镜外区域的至少一部分上。

7.根据权利要求6所述的光源装置，其中，

所述一层以上的功能性膜包括以层叠方式设置着的多个功能性膜。

8.根据权利要求7所述的光源装置，其中，

所述一层以上的功能性膜具有如下的构造：在该构造中，取决于所述基板上的位置而层叠有不同数量的所述功能性膜。

9.根据权利要求6所述的光源装置，其中，

所述一层以上的功能性膜包括对准标记。

10.根据权利要求6所述的光源装置，其中，

所述一层以上的功能性膜设置在所述基板的所述第二面上且位于当所述基板被单片化时的划线区域以外。

11.光源装置的制造方法，所述制造方法包括：

凹部形成步骤，即：对于具有设置有光生成元件的第一面且具有位于所述第一面的相反侧的第二面的基板，在该基板的所述第二面中的与所述光生成元件相对应的位置处形成凹部。

12.根据权利要求11所述的光源装置的制造方法，其中，

所述凹部形成步骤包括：利用由于化学机械研磨而发生的凹陷来形成所述凹部。

13.根据权利要求12所述的光源装置的制造方法，其中，

所述凹部形成步骤包括：在所述第二面上形成硬掩模，在所述硬掩模的与所述凹部相对应的区域处设有开口，并且针对在与所述凹部相对应的区域处设有所述开口的所述硬掩模实施所述化学机械研磨。

14.根据权利要求11所述的光源装置的制造方法，其中，

所述凹部形成步骤包括：在所述第二面上形成具有与所述基板的蚀刻速率不同的蚀刻速率的辅助膜，并且利用所述基板的蚀刻速率和所述辅助膜的蚀刻速率的比来形成所述凹部。

15.根据权利要求14所述的光源装置的制造方法，其中，

所述凹部形成步骤包括：在所述第二面上的与所述凹部相对应的位置处形成凸部，在形成有所述凸部的所述第二面上形成具有比所述基板及所述凸部的蚀刻速率更低的蚀刻速率且具有平坦表面的所述辅助膜，并且对所述辅助膜实施蚀刻以形成所述凹部。