[发明专利]伪随机点图案及其作成方法在审
申请号: | 202180012658.2 | 申请日: | 2021-02-06 |
公开(公告)号: | CN115004064A | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 塚尾怜司 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;李啸 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 随机 图案 及其 作成 方法 | ||
1.一种伪随机点图案,在xy平面中沿着y方向隔着既定间隔重复配置了第1斜方格子区域和第2斜方格子区域,
所述第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a1,
所述第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a2。
2.如权利要求1所述的伪随机点图案,其中,
对于与x方向斜交的排列轴,第1斜方格子区域和第2斜方格子区域以使一个斜方格子区域的排列轴的延长线不会成为另一个斜方格子区域的排列轴的方式重复配置。
3.如权利要求1或2所述的伪随机点图案,其中,
第1斜方格子区域和第2斜方格子区域交替重复配置。
4.如权利要求1至3的任一项所述的伪随机点图案,其中,
在第1斜方格子区域的排列轴a1和第2斜方格子区域的排列轴a2中,各个点以固定的间距配置。
5.如权利要求4所述的伪随机点图案,其中,
第1斜方格子区域的排列轴a1与第2斜方格子区域的排列轴a2的点的间距相等。
6.如权利要求1至5的任一项所述的伪随机点图案,其中,
在第1斜方格子区域中邻接的排列轴a1彼此的距离L1与第2斜方格子区域中邻接的排列轴a2彼此的距离L2相等。
7.如权利要求1至6的任一项所述的伪随机点图案,其中,
在邻接的第1斜方格子区域的排列轴a1与第2斜方格子区域的排列轴a2中,最接近的点彼此的位置在x方向上错开。
8.如权利要求1至7的任一项所述的伪随机点图案,其中,
第1斜方格子区域中的排列轴a1的排列数和第2斜方格子区域中的排列轴a2的排列数相等。
9.如权利要求1至8的任一项所述的伪随机点图案,其中,
第1斜方格子区域中的排列轴a1的排列数和第2斜方格子区域中的排列轴a2的排列数为4以下。
10.一种伪随机点图案的作成方法,在xy平面中沿着y方向隔着既定间隔重复配置第1斜方格子区域和第2斜方格子区域,
所述第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向以既定间距配置了点的点的排列轴a1,
所述第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a2。
11.一种填料在xy平面上以伪随机点图案配置在树脂层中的含填料膜,
沿着y方向隔着既定间隔重复配置有第1斜方格子区域和第2斜方格子区域,
所述第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向以既定间距配置了填料的填料的排列轴a1,
所述第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了填料的填料的排列轴a2。
12.如权利要求11所述的含填料膜,其中,
对于与x方向斜交的排列轴,第1斜方格子区域和第2斜方格子区域以使一个斜方格子区域的排列轴的延长线不会成为另一个斜方格子区域的排列轴的方式重复配置。
13.如权利要求11或12所述的含填料膜,其中,
排列轴a1与膜的长边方向平行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪睿合株式会社,未经迪睿合株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180012658.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:各向异性导电膜
- 下一篇:辅助检测非酒精性脂肪肝炎的方法