[发明专利]伪随机点图案及其作成方法在审

专利信息
申请号: 202180012658.2 申请日: 2021-02-06
公开(公告)号: CN115004064A 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 塚尾怜司 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 何欣亭;李啸
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 随机 图案 及其 作成 方法
【说明书】:

本发明提供能够更加容易地以几何学方法作成的伪随机点图案。该伪随机点图案具有在xy平面中沿着y方向隔着既定间隔重复配置第1斜方格子区域和第2斜方格子区域的点配置,在第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a1,在第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a2。

技术领域

本发明涉及伪随机点图案及其作成方法。

背景技术

随机点图案在点的配置上没有规律性或再现性而称为不可预测的状态,与之相对伪随机点图案看起来像随机点图案,但在点的配置上具有规律性或再现性而称为可预测的状态。在此,点是指微小的点或构造。

若将伪随机点图案应用于光扩散片,则能够阻止衍射图案的产生(专利文献1、专利文献2、专利文献3)。在该情况下,要求点彼此之间没有重叠,点图案不规律到不出现莫尔(モアレ)条纹的程度,点的分布均匀到目视观察不到不均匀的程度并且具有既定个数密度。

伪随机点图案也使用于距离计测等,例如,已知使用将微透镜以伪随机点图案配置的投影仪的深度相机(Microsoft公司Kinect(注册商标))。

作为伪随机点图案的作成方法,如专利文献1中记载的那样,有使用线性反馈移位寄存器来生成各点的位置的方法。还提出了基于分子动力学的方法等(非专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-49267号公报

专利文献2:日本特表2006-502442号公报

专利文献3:日本特表2019-510996号公报

非专利文献

非专利文献1:情报处理学会研究报告,Vol.2012-XL,No.8,2012/5/14。

发明内容

(发明要解决的课题)

对于现有的伪随机点图案的作成方法,希望能够在更短时间内容易地作成具有期望的个数密度或周期性的伪随机点图案。

相对于此,本发明的课题在于使得能够更容易地以几何学方法作成伪随机点图案。

(用于解决课题的方案)

本发明人想到在xy平面中沿着y方向隔着间隔重复配置具有与x方向以角度α斜交的b方向的排列轴的第1斜方格子区域和具有将b方向相对于x方向反转后的c方向的排列轴的第2斜方格子区域时能够作成伪随机点图案,从而完成了本发明。

即,本发明提供伪随机点图案,在xy平面中沿着y方向隔着既定间隔重复配置了第1斜方格子区域和第2斜方格子区域,所述第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a1,所述第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a2。

另外,本发明提供伪随机点图案的作成方法,在xy平面中沿着y方向隔着既定间隔重复配置第1斜方格子区域和第2斜方格子区域,所述第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向以既定间距配置了点的点的排列轴a1,所述第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了点的点的排列轴a2。此外,该伪随机点图案的作成方法也可以说是伪随机点图案的设计方法。

进而,本发明提供填料在xy平面上以伪随机点图案配置在树脂层中的含填料膜,沿着y方向隔着既定间隔重复配置有第1斜方格子区域和第2斜方格子区域,所述第1斜方格子区域中沿着与x方向以角度α斜交的b方向排列有多个在x方向以既定间距配置了填料的填料的排列轴a1,所述第2斜方格子区域中沿着使所述b方向相对于x方向反转后的c方向排列有多个在x方向上以既定间距配置了填料的填料的排列轴a2。

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