[发明专利]半导体膜、光检测元件、图像传感器及半导体膜的制造方法在审
申请号: | 202180013675.8 | 申请日: | 2021-02-08 |
公开(公告)号: | CN115066757A | 公开(公告)日: | 2022-09-16 |
发明(设计)人: | 小野雅司;高田真宏 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01L31/0248 | 分类号: | H01L31/0248;B82Y20/00;H01L21/368;H01L27/146 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 薛海蛟 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 检测 元件 图像传感器 制造 方法 | ||
1.一种半导体膜,其包含含有Pb原子的半导体量子点的集合体及与所述半导体量子点配位的配体,
1价以下的Pb原子的个数相对于2价Pb原子的个数之比为0.20以下。
2.根据权利要求1所述的半导体膜,其中,
1价以下的Pb原子的个数相对于2价Pb原子的个数之比为0.10以下。
3.根据权利要求1所述的半导体膜,其中,
1价以下的Pb原子的个数相对于2价Pb原子的个数之比为0.05以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的半导体膜,其中,
所述半导体量子点含有PbS。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的半导体膜,其中,
所述配体包含选自含有卤原子的配体及含有2个以上配位部的多齿配体中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的半导体膜,其中,
所述含有卤原子的配体为无机卤化物。
7.根据权利要求6所述的半导体膜,其中,
所述无机卤化物含有Zn原子。
8.根据权利要求5至7中任一项所述的半导体膜,其中,
所述含有卤原子的配体含有碘原子。
9.一种光检测元件,其包含权利要求1至8中任一项所述的半导体膜。
10.一种图像传感器,其包含权利要求9所述的光检测元件。
11.一种半导体膜的制造方法,其包括:
半导体量子点集合体形成工序,在基板上赋予包含含有Pb原子的半导体量子点、与所述半导体量子点配位的第1配体及溶剂的半导体量子点分散液而形成半导体量子点的集合体的膜;
配体交换工序,对通过所述半导体量子点集合体形成工序形成的所述半导体量子点的集合体的膜赋予包含与所述第1配体不同的第2配体及溶剂的配体溶液,将与半导体量子点配位的第1配体和配体溶液中包含的第2配体进行交换;
冲洗工序,使所述配体交换工序后的半导体量子点的集合体的膜与非质子性溶剂接触而进行冲洗;及
干燥工序,对冲洗工序后的半导体膜在含氧气体环境下进行干燥。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的