[发明专利]用于校准的系统和方法

权利要求书

1.一种方法，包括：

(a)获得在材料制造或加工机器中提供的材料表面的一个或多个图像，其中所述材料表面包括一个或多个校准特征；

(b)至少部分地基于所述一个或多个图像确定所述一个或多个校准特征的一个或多个空间特性，其中所述一个或多个空间特性包括以下中的一个或多个：(i)所述一个或多个校准特征之间的距离，(ii)所述一个或多个校准特征的位置，(iii)所述一个或多个校准特征的取向，(iv)所述一个或多个校准特征的对准，(v)所述一个或多个校准特征的大小或(vi)所述一个或多个校准特征的形状；以及

(c)使用所述一个或多个空间特性来调整以下中的至少一个：(i)成像单元相对于所述材料表面或相对于所述材料制造或加工机器的位置或取向，(ii)所述材料表面相对于所述成像单元的角度或倾斜度，以及(iii)所述成像单元的一个或多个成像参数，其中所述一个或多个成像参数包括与所述成像单元相关联的曝光时间、快门速度、光圈、胶片速度、视场、对焦区域、对焦距离、拍摄率或拍摄时间。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个零维(0-D)特征。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述一个或多个零维(0-D)特征包括一个或多个点。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述一个或多个点包括一个或多个激光点。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个校准特征包括一个或多个一维(1-D)特征。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述一个或多个一维(1-D)特征包括一条或多条线。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条基本上是直的或线性的。

8.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条基本上是非线性的。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条具有弯曲部分。

10.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条为实线。

11.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条是包含两条或更多条线段的虚线。

12.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此平行。

13.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此不平行。

14.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此呈斜角。

15.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此相交。

16.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此不相交。

17.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此垂直。

18.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此不垂直。

19.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条彼此重叠。

20.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少两条在一点处会聚。

21.根据权利要求6所述的方法，其中所述线中的至少一条沿垂直轴延伸。