[发明专利]信号处理装置、信号处理方法、程序和照明装置

权利要求书

1.一种信号处理装置，所述信号处理装置执行用于通过对入射光的空间光相位调制而在投影平面上再现目标光强度分布的相位分布的计算处理，

其中，以满足“条件1”的方式执行所述计算处理，并且，

所述“条件1”规定所述计算处理包括作为包括非线性项的光线-光学模型的非线性光线-光学模型和关于通过线性化非线性光线-光学模型获得的模型的逆计算模型，确定所述目标光强度分布与通过所述非线性光线-光学模型根据所述相位分布的临时值计算的光强度分布之间的误差的误差分布，通过将所述误差分布与反馈增益相乘获得光强度校正值，将所述光强度校正值输入至所述逆计算模型以获得输出，将获得的所述输出视为相位校正值，并且使用通过将所述相位校正值与所述临时值相加来重复更新所述相位分布的反馈回路。

2.根据权利要求1所述的信号处理装置，

其中，所述信号处理装置以满足所述“条件1”和“条件2”的方式执行计算所述相位分布的计算处理，并且

所述“条件2”规定在所述非线性光线-光学模型中并入所述入射光的光强度分布的项。

3.根据权利要求1所述的信号处理装置，

其中，所述信号处理装置以满足所述“条件1”和“条件3”的方式执行计算所述相位分布的计算处理，并且

所述“条件3”规定在所述非线性光线-光学模型和所述逆计算模型两者中并入所述入射光的光强度分布的项。

4.根据权利要求1所述的信号处理装置，

其中，所述信号处理装置根据所述误差分布的绝对值控制所述反馈增益。

5.根据权利要求4所述的信号处理装置，

其中，在通过将所述误差分布与基于常数的所述反馈增益相乘而获得的所述光强度校正值的绝对值的最大值超过预定值的情况下，控制所述反馈增益以将所述光强度校正值的绝对值的最大值降低至不大于所述预定值的值，以及

在通过将所述误差分布与基于所述常数的所述反馈增益相乘而获得的所述光强度校正值的绝对值的最大值不超过所述预定值的情况下，所述常数被用作所述反馈增益。

6.一种信号处理方法，由信号处理装置采用，所述信号处理装置被配置为执行用于通过对入射光的空间光相位调制而在投影平面上再现目标光强度分布的相位分布的计算处理，

其中，以满足“条件1”的方式执行所述计算处理，并且，

所述“条件1”规定所述计算处理包括作为包括非线性项的光线-光学模型的非线性光线-光学模型和关于通过线性化非线性光线-光学模型获得的模型的逆计算模型，确定所述目标光强度分布与通过所述非线性光线-光学模型根据所述相位分布的临时值计算的光强度分布之间的误差的误差分布，通过将所述误差分布与反馈增益相乘获得光强度校正值，将所述光强度校正值输入至所述逆计算模型以获得输出，将获得的所述输出视为相位校正值，并且使用通过将所述相位校正值与所述临时值相加来重复更新所述相位分布的反馈回路。

7.一种程序，由计算机装置可读并适于使计算机装置执行用于通过对入射光的空间光相位调制而在投影平面上再现目标光强度分布的相位分布的计算处理，

其中，以满足“条件1”的方式执行所述计算处理，并且，

所述“条件1”规定计算处理包括作为包括非线性项的光线-光学模型的非线性光线-光学模型和关于通过线性化非线性光线-光学模型获得的模型的逆计算模型，确定所述目标光强度分布与通过所述非线性光线-光学模型根据所述相位分布的临时值计算的光强度分布之间的误差的误差分布，通过将所述误差分布与反馈增益相乘获得光强度校正值，将所述光强度校正值输入至所述逆计算模型以获得输出，将获得的所述输出视为相位校正值，并且使用通过将所述相位校正值与所述临时值相加来重复更新所述相位分布的反馈回路。