[发明专利]光束强度均匀化元件在审
| 申请号： | 202180042660.4 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN115698777A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 长谷山亮;织田学;西山寿美;芦野淳 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 齐秀凤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光束 强度 均匀 元件 | ||
【权利要求书】：
1.一种光束强度均匀化元件，具备：
光学基体，具有彼此为相反侧的表面和背面；
第1透镜阵列，配置在所述光学基体的所述表面；和
第2透镜阵列，配置在所述光学基体的所述背面，
所述第1透镜阵列具有沿着所述光学基体的所述表面在多个不同的方向上排列的多个第1模制透镜单元，
所述多个第1模制透镜单元具有形成有沿着第1方向延伸的多个第1线状痕迹且构成所述光学基体的所述表面的表面，
所述第2透镜阵列具有沿着所述光学基体的所述背面在多个不同的方向上排列的多个第2模制透镜单元，
所述第2模制透镜单元具有形成有沿着与所述第1方向不同的第2方向延伸的多个第2线状痕迹且构成所述光学基体的所述背面的表面。
2.根据权利要求1所述的光束强度均匀化元件，其中，
所述第1方向与所述第2方向正交。
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