[发明专利]光束强度均匀化元件

说明书

本公开提供一种光束强度均匀化元件，具备光学基体、配置在光学基体的表面的第1透镜阵列和配置在光学基体的背面的第2透镜阵列。第1透镜阵列具有沿着光学基体的表面在多个不同的方向上排列的多个第1模制透镜单元。多个第1模制透镜单元具有形成有沿着第1方向延伸的多个第1线状痕迹且构成光学基体的表面的表面。第2透镜阵列具有沿着光学基体的背面在多个不同的方向上排列的多个第2模制透镜单元。第2模制透镜单元具有形成有沿着与第1方向不同的第2方向延伸的多个第2线状痕迹且构成光学基体的背面的表面。该光束强度均匀化元件能够抑制干涉条纹的产生，并且能够降低成本。

技术领域

本公开涉及用于将光线的光强度分布均匀化的光束强度均匀化元件。

背景技术

光束强度均匀化元件包括透镜阵列。透镜阵列具有将多个透镜单元2维地排列配置的结构。透镜阵列通过用模具将玻璃材料压制成形的所谓的模制成形来制作。在模制成形中的模具中，对透镜面进行转印的成形面通过切削加工等来制作，因而在成形面形成沿着加工方向的线状的加工痕迹。加工痕迹作为线状痕迹而被转印到模制透镜单元的表面。由于该线状痕迹有规则性地存在于模制透镜单元的表面，因而在透过模制透镜单元后的光线中产生干涉条纹。

为了抑制该干涉条纹而提出了如下构造，即，使形成于透镜阵列中的多个模制透镜单元的线状痕迹的间距按照相邻的每个模制透镜单元而不同。

以往的光束强度均匀化元件例如被专利文献1公开。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-1225号公报

发明内容

在使线状痕迹的间距按照每个透镜单元而不同的上述的以往的光束强度均匀化元件中，必须变更模具的成形面中的每个透镜单元的加工条件。即，用于对透镜阵列进行模制成形的模具加工变得非常复杂。因此，模具的制作成本变高，作为结果，透镜阵列的成本上涨。

光束强度均匀化元件具备光学基体、配置在光学基体的表面的第1透镜阵列和配置在光学基体的背面的第2透镜阵列。第1透镜阵列具有沿着光学基体的表面在多个不同的方向上排列的多个第1模制透镜单元。多个第1模制透镜单元具有形成有沿着第1方向延伸的多个第1线状痕迹且构成光学基体的表面的表面。第2透镜阵列具有沿着光学基体的背面在多个不同的方向上排列的多个第2模制透镜单元。第2模制透镜单元具有形成有沿着与第1方向不同的第2方向延伸的多个第2线状痕迹且构成光学基体的背面的表面。

该光束强度均匀化元件能够抑制干涉条纹的产生，并且能够降低成本。

附图说明

图1是示意性地示出本公开的实施方式中的光束强度均匀化元件的三视图。

图2是示出实施方式中的光束强度均匀化元件的制造方法的示意图。

图3是示出实施方式中的制造方法的成形装置中的模具成形面的制造方法的示意图。

图4是示出实施方式中的光束强度均匀化元件的干涉条纹的图。

图5是示出线状痕迹的方向一致的比较例的光束强度均匀化元件的干涉条纹的图。

具体实施方式

以下，使用附图对本公开的实施方式涉及的光束强度均匀化元件进行说明。另外，以下说明的实施方式均示出本公开的优选的一具体例。因此，以下的实施方式中示出的形状、构成要素、构成要素的配置以及连接方式等是一个例子，其主旨不在于限定本公开。因此，对于以下的实施方式中的构成要素之中未记载于表示本发明的最上位概念的独立技术方案的构成要素，作为任意的构成要素来进行说明。

此外，各图是示意图，未必严谨地进行了图示。在各图中，对于实质上相同的构造标注相同的符号，省略或简化了重复的说明。