[发明专利]层叠体

权利要求书

1.一种层叠体，其特征在于，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层，

所述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，

所述层叠体在掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out-of-plane)测定中，在归属于层状结构的波数2nm^-1～10nm^-1处具有峰，

通过下述试验而测得的所述防污层的积分强度比为0.0035以下，

试验：针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射(in-plane)测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度(面内衍射积分强度)；另外，针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out-of-plane)测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度(面外衍射积分强度)，根据所得面内衍射积分强度和面外衍射积分强度，计算面内衍射积分强度相对于面外衍射积分强度的积分强度比(面内衍射积分强度/面外衍射积分强度)。

2.根据权利要求1所述的层叠体，其特征在于，在所述基材与所述防污层之间还具备密合层。

3.根据权利要求2所述的层叠体，其特征在于，所述密合层为包含二氧化硅的层。

4.根据权利要求3所述的层叠体，其特征在于，所述防污层通过具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物借助硅氧烷键而形成于所述密合层。

5.根据权利要求3或4所述的层叠体，其特征在于，在所述基材与所述密合层之间还具备底漆层。

6.根据权利要求1或2所述的层叠体，其特征在于，在所述基材与所述防污层之间还具备防反射层。

7.根据权利要求6所述的层叠体，其特征在于，所述防反射层由具有互不相同的折射率的两个以上的层形成。

8.根据权利要求7所述的层叠体，其特征在于，所述防反射层包含选自由金属、金属氧化物、金属氮化物组成的组中的1种。

9.根据权利要求7或8所述的层叠体，其特征在于，所述防反射层的厚度方向的一面为包含二氧化硅的层。

10.根据权利要求6～9中任一项所述的层叠体，其特征在于，在所述基材与所述防反射层之间还具备底漆层。