[发明专利]层叠体

说明书

层叠体朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层。防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物。在掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out‑of‑plane)测定中，在归属于层状结构的波数2nmsupgt;‑1/supgt;～10nmsupgt;‑1/supgt;处具有峰。通过规定试验而测得的防污层的积分强度比为0.0035以下。

技术领域

本发明涉及层叠体，详细而言，涉及具备防污层的层叠体。

背景技术

以往，从防止手垢、指纹等污物附着于薄膜基材的表面、光学镜头等光学部件的表面的观点出发，已知的是形成防污层。

作为这种防污层的形成方法，提出了例如通过真空蒸镀法在被处理基材的表面形成防污性物质的薄膜的防污性薄膜的形成方法(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-71665号公报

发明内容

发明要解决的问题

另一方面，若拭去附着于防污层的污物，则存在防污层的防污性降低的不良情况。

本发明提供即便在拭去附着于防污层的污物后，也能够抑制防污层的防污性降低的层叠体。

用于解决问题的方案

本发明[1]是一种层叠体，其朝着厚度方向的一面侧依次具备基材和防污层，

前述防污层包含具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物，所述层叠体在掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out-of-plane)测定中，在归属于层状结构的波数2nm^-1～10nm^-1处具有峰，通过下述试验而测得的前述防污层的积分强度比为0.0035以下。

试验：针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面内衍射(in-plane)测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度(面内衍射积分强度)。另外，针对防污层，通过掠入射X射线衍射法中的面外衍射(out-of-plane)测定，测定归属于层状结构的峰的积分强度(面外衍射积分强度)。根据所得面内衍射积分强度和面外衍射积分强度，计算面内衍射积分强度相对于面外衍射积分强度的积分强度比(面内衍射积分强度/面外衍射积分强度)。

本发明[2]包括上述[1]所述的层叠体，其中，在前述基材与前述防污层之间还具备密合层。

本发明[3]包括上述[2]所述的层叠体，其中，前述密合层为包含二氧化硅的层。

本发明[4]包括上述[3]所述的层叠体，其中，前述防污层通过具有全氟聚醚基的烷氧基硅烷化合物借助硅氧烷键合而形成于前述密合层。

本发明[5]包括上述[3]或[4]所述的层叠体，其中，在前述基材与前述密合层之间还具备底漆层。

本发明[6]包括上述[1]或[2]所述的层叠体，其中，在前述基材与前述防污层之间还具备防反射层。

本发明[7]包括上述[6]所述的层叠体，其中，前述防反射层由具有互不相同的折射率的两个以上的层形成。

本发明[8]包括上述[7]所述的层叠体，其中，前述防反射层包含选自由金属、金属氧化物、金属氮化物组成的组中的1种。

本发明[9]包括上述[7]或[8]所述的层叠体，其中，前述防反射层的厚度方向的一面为包含二氧化硅的层。

本发明[10]包括上述[6]～[9]中任一项所述的层叠体，其中，在前述基材与前述防反射层之间还具备底漆层。

发明的效果