[发明专利]缓冲器以及缓冲器的制造方法

权利要求书

1.一种缓冲器，其具备：

缸体，其封入有工作油；

活塞杆，其能够在所述缸体的内部移动；以及

油封，其固定在所述缸体上并与所述活塞杆滑动接触，

所述缓冲器的特征在于，

在所述活塞杆的表面具有从3价铬镀浴得到的以铬为主要成分的硬质层，

所述硬质层包含结晶质和非晶质双方，并且包含所述铬以外的添加物。

2.根据权利要求1所述的缓冲器，其特征在于，

所述硬质层的X射线衍射测定的测定值的峰值积分强度比和根据下述式1计算出的结晶化率为5～99％，

结晶化率(峰值积分强度比％)＝(结晶质/(结晶质+非晶质))×100…式1。

3.根据权利要求1或2所述的缓冲器，其特征在于，

所述添加物包含氢、碳、氮及氧中的至少一种元素，所述添加物的含有量为0.5质量％以上4.3质量％以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的缓冲器，其特征在于，

所述硬质层的维氏硬度HV为800HV以上，并且摩擦力小于47.3N。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的缓冲器，其特征在于，

所述硬质层的表面粗糙度Rz为0.6μm以下。

6.一种缓冲器的制造方法，所述缓冲器具备：

缸体，其封入有工作油；

活塞杆，其能够在所述缸体的内部移动；以及

油封，其固定在所述缸体上并与所述活塞杆滑动接触，

所述缓冲器的制造方法的特征在于，

具有在所述活塞杆的表面形成由以3价铬为主要成分的硬质层构成的镀膜的镀敷工序，

所述镀敷工序在包含3价铬盐、羧酸、pH缓冲剂和传导盐并且pH≤0.1的镀浴中，将阴极电流密度设为100A/dm²以上来实施。