[发明专利]液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件在审
申请号: | 202180063543.6 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN116234857A | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
发明(设计)人: | 结城达也;小西玲久;杉山崇明;福田一平 | 申请(专利权)人: | 日产化学株式会社 |
主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吕琳;朴秀玉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 取向 以及 液晶显示 元件 | ||
本发明提供一种用于得到即使减少利用光取向法的取向处理中的光照射量也会抑制液晶取向膜面内的液晶取向性的偏差(不均匀性)的液晶取向膜。一种液晶取向剂,其特征在于,所述液晶取向剂含有选自由聚酰亚胺前体、以及作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种聚合物(A),所述聚酰亚胺前体使用相对于所使用的二胺成分1摩尔包含5摩尔%以上的下述式(1)所示的二胺的二胺成分和包含下述式(T)所示的脂环式四羧酸二酐或其衍生物的四羧酸衍生物成分而得到。(式(1)中,苯环上的任意氢原子任选地被一价取代基取代。)(式(T)中,X如说明书中所定义。)
技术领域
本发明涉及液晶取向剂、液晶取向膜以及液晶显示元件。
背景技术
以往,液晶显示装置广泛用作个人计算机、智能手机、便携式电话、电视接收机等的显示部。液晶显示装置例如具备:液晶层,夹持于元件基板与滤色器基板之间;像素电极和共用电极,对液晶层施加电场;取向膜,控制液晶层的液晶分子的取向性;以及薄膜晶体管(TFT:Thin Film Transistor),对供给至像素电极的电信号进行转换(switching)等。作为液晶分子的驱动方式,已知:TN(Twisted Nematic:扭曲向列)方式、VA(VerticalAlignment:垂直取向)方式等纵电场方式;IPS(In-Plane Switching:共面转换)方式、FFS(Fringe Field Switching:边缘场开关)方式等横电场方式。
目前,工业上最普及的液晶取向膜通过进行所谓的刷磨(Rubbing)处理来制作,所述刷磨处理是利用棉、尼龙、聚酯等布,对在电极基板上形成的、由聚酰胺酸和/或将其酰亚胺化而成的聚酰亚胺构成的膜的表面沿单向进行摩擦。刷磨处理是简便且生产性优异的工业上有用的方法。但是,随着液晶显示元件的高性能化、高精细化、大型化,通过刷磨处理产生的取向膜的表面的损伤、扬尘、由机械力、静电造成的影响、进而取向处理面内的不均匀性等各种问题变得明显。作为代替刷磨处理的取向处理方法,已知通过照射经偏振的放射线,赋予液晶取向能力的光取向法。就光取向法而言,提出了:利用光异构化反应的方法、利用光交联反应的方法、利用光分解反应的方法等(例如参照非专利文献1、专利文献1、专利文献2)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平9-297313号公报
专利文献2:WO2016/152928号小册子
非专利文献
非专利文献1:“液晶光取向膜”木户胁,市村,功能材料,1997年11月号,Vol.17,No.11 13~22页
发明内容
发明所要解决的问题
在通过光取向法进行取向处理的情况下,光的照射量成为对能量成本、生产速度造成影响的因素,因此优选能以少量的照射量进行取向处理。但是,根据本发明人等的研究,即使是在照射量多的条件下可得到良好的液晶取向性的液晶取向剂,在减少光照射量的情况下,液晶取向膜面内的液晶取向性也容易产生偏差(不均匀性),液晶显示元件面内的液晶的扭转角度的偏差也变大。于是,在液晶显示元件中进行黑显示时,面内的亮度产生偏差,可能会降低显示品质。
此外,用于IPS驱动方式、FFS驱动方式的液晶显示元件的液晶取向膜还需要用于抑制由长期交流驱动导致的残影(以下也称为AC残影)的取向限制力。
因此,本发明的目的在于提供即使减少利用光取向法的取向处理中的光照射量也会抑制液晶取向膜面内的液晶取向性的偏差(不均匀性)的液晶取向膜、以及用于得到所述液晶取向膜的液晶取向剂、以及使用了所述液晶取向膜的液晶显示元件。进而,本发明的目的在于,提供具有能抑制AC残影的优异的液晶取向限制力的液晶取向膜、以及用于得到所述液晶取向膜的液晶取向剂、以及使用了所述液晶取向膜的液晶显示元件。
用于解决问题的方案
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