[发明专利]一种金属单原子催化剂及其制备方法有效
申请号: | 202210074684.4 | 申请日: | 2022-01-21 |
公开(公告)号: | CN114367286B | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 黄宇;石先进;李荣;曹军骥 | 申请(专利权)人: | 中国科学院地球环境研究所 |
主分类号: | B01J23/652 | 分类号: | B01J23/652;B01J23/42;B01J23/648;B01J23/656;B01J23/75;B01J23/80;B01J23/83;B01J23/835;B01J23/847;B01J23/888;B01J23/89;C01B32/40;C07C1/02;C07 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 安彦彦 |
地址: | 710054 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 原子 催化剂 及其 制备 方法 | ||
1.一种金属单原子催化剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
将半导体金属氧化物与空穴牺牲剂溶液混合,搅拌均匀,并采用100mL/min的惰性气体吹扫,在氙灯下照射1-5h,得到还原性金属氧化物分散液;
将单原子源液滴加到上述还原性金属氧化物分散液中,避光搅拌,分离,烘干,得到金属单原子催化剂;其中,单原子源液中单原子的质量比为半导体金属氧化物质量的0.01-10%;
半导体金属氧化物为MoO3、WO3、TiO2与Cu2O中的一种;
单原子源液为含Pt、Pd、Au、Fe、Ni、Cu或Ag单原子金属源溶液中的一种;单原子源液的浓度为0.1-0.3mol/L;
空穴牺牲剂为甲醇与乙醇中的一种或多种混合;
半导体金属氧化物与空穴牺牲剂溶液的用量比为1g:100-500mL;
避光搅拌的转速为200-400转/分钟,搅拌时间为20-24h;烘干温度为40-90℃,时间为6-24h;
该催化剂中金属的负载量为1%,具有光催化还原二氧化碳性能。
2.根据权利要求1所述的一种金属单原子催化剂的制备方法,其特征在于,惰性气体为氦气、氮气、氩气中的一种或多种任意比混合气体,吹扫时间为0.5-20h。
3.根据权利要求1所述的一种金属单原子催化剂的制备方法,其特征在于,含Pt单原子金属源为H2PtCl6与Pt(NH3)4Cl2中的一种;
含Pd单原子金属源为PdCl4与Na2PdCl4中的一种;
含Au单原子金属源为HAuCl4;
含Ag单原子金属源为AgNO3;
含Fe单原子金属源为FeCl3与FeCl2中的一种;
含Ni单原子金属源为NiCl2;
含Cu单原子金属源为CuCl2与Cu(NO3)2中的一种。
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