[发明专利]基板制备方法及显示面板

说明书

本发明公开了一种基板制备方法及显示面板，基板制备方法包括：提供待加工基板，待加工基板具有相对的第一表面和第二表面，第一表面形成有对位标记部；翻转待加工基板，以使第一表面和第二表面互换位置；在待加工基板的第二表面上涂覆光刻胶；将待加工基板固定于固定板，第一表面和固定板相对设置，且固定板和待加工基板的厚度之间的差值小于或者等于预设值；将曝光部和对位标记部进行对位，并通过曝光部对待加工基板的第二表面进行曝光。通过将固定板的厚度设置为和待加工基板的厚度之间的差值小于或者等于预设值，以保证固定板对于对位标记部的抬高高度能够使曝光聚焦定位，工艺简单易操作，有效提高了基板的生产效率。

技术领域

本发明属于电子产品技术领域，尤其涉及一种基板制备方法及显示面板。

背景技术

双面曝光是针对硅及其它半导体基底发展起来的加工技术，旨在基底两面制作光刻图样并且实现映射对准曝光，受到现有的曝光机的聚焦定位范围限制，进行背面曝光时无法对正面的图形进行准确套刻，影响基板的生产效率。

因此，亟需一种新的基板制备方法及显示面板。

发明内容

本发明实施例提供了一种基板制备方法及显示面板，通过将固定板的厚度设置为和待加工基板的厚度之间的差值小于或者等于预设值，以保证固定板对于对位标记部的抬高高度能够使曝光聚焦定位，工艺简单易操作，有效提高了基板的生产效率。

本发明实施例一方面提供了一种基板制备方法，包括：提供待加工基板，所述待加工基板具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有对位标记部；翻转所述待加工基板，以使所述第一表面和所述第二表面互换位置；在所述待加工基板的第二表面上涂覆光刻胶；将所述待加工基板固定于固定板，所述第一表面和所述固定板相对设置，且所述固定板和所述待加工基板的厚度之间的差值小于或者等于预设值；将曝光部和所述对位标记部进行对位，并通过所述曝光部对所述待加工基板的第二表面进行曝光。

根据本发明的一个方面，在所述提供待加工基板和翻转所述待加工基板的步骤之间，还包括：在所述对位标记部背离所述待加工基板一侧和所述第一表面未被所述对位标记部覆盖的部分上涂覆光刻胶。

根据本发明的一个方面，在所述将所述待加工基板固定于固定板的步骤中，包括：所述固定板形成有用于容纳所述对位标记部的容纳槽，所述容纳槽的深度大于或者等于所述对位标记部的高度。

根据本发明的一个方面，在所述将所述待加工基板固定于固定板的步骤中，包括：所述固定板形成有至少一个限位件，以通过所述限位件限制所述待加工基板移动。

根据本发明的一个方面，所述限位件的数量大于或者等于两个，且各个所述限位件关于所述容纳槽的中心对称分布。

根据本发明的一个方面，在所述将所述待加工基板固定于固定板的步骤中：所述固定板和所述待加工基板的厚度相等。

根据本发明的一个方面，在所述将所述待加工基板固定于固定板的步骤中：所述预设值为10μm～20μm。

根据本发明的一个方面，在所述将所述待加工基板固定于固定板的步骤中，包括：所述固定板为透明板体；优选地，所述透明板体为透明玻璃或透明聚酰亚胺。

根据本发明的一个方面，在所述提供待加工基板的步骤中，包括：对所述待加工基板的第一表面进行图案化处理以形成第一图案层，所述第一图案层包括所述对位标记部。

本发明实施例另一方面提供了一种显示面板，包括：采用上述任一实施例中的基板制备方法所制备的基板。