[发明专利]压电石英晶片的超声波清洗设备

权利要求书

1.压电石英晶片的超声波清洗设备，包括清洗室和烘干室，其特征在于：所述清洗室内部包括清洗腔和排水腔，所述排水腔位于清洗腔底部，所述清洗腔内部放置有清洗液，所述清洗室设置在烘干室左侧，所述清洗室远离烘干室的侧壁上端开设有与清洗室连通的入口，所述烘干室远离清洗室的侧壁上端开设有与烘干室连通、与入口相对应的出口，所述清洗室与烘干室连接处的侧壁上开设有连通烘干室与清洗室、与入口和出口相对应的连通口；

所述清洗室左侧设有第一支撑架，所述第一支撑架顶端与入口相对应，所述烘干室右端设有第二支撑架，所述第二支撑架顶端与出口相对应，所述清洗室和烘干室内设置有连通第一支撑架、清洗室、烘干室以及第二支撑架的传送带，所述传送带穿过入口、连通口和出口，所述传送带的至少一部分浸入清洗液中；

所述清洗腔内侧壁上设有用于产生超声波以对清洗液进行作用进而对零件进行作用的超声波发生器，所述排水腔内部设置有用于过滤清洗液内部杂质、便于拆卸的过滤网；

所述烘干室包括烘干腔和控制室，所述烘干腔位于控制室底部，所述控制室内部设有控制设备所有电器运作的控制器，所述烘干腔内侧壁上设有加热板，所述烘干腔内部设有抽取烘干室内部灰尘的除尘装置。

2.根据权利要求1所述的压电石英晶片的超声波清洗设备，其特征在于：所述排水腔两端内侧壁上设有固定块，所述固定块远离排水腔内侧壁的一端设有与过滤网相配合的凹槽，所述过滤网两端放置在凹槽中，所述固定块与过滤网通过螺栓固定连接。

3.根据权利要求2所述的压电石英晶片的超声波清洗设备，其特征在于：所述清洗室侧壁上开设有若干个连通排水腔与外界的排水口，所述排水口上设有与排水口相配合的防水塞。

4.根据权利要求1所述的压电石英晶片的超声波清洗设备，其特征在于：所述除尘装置包括过滤箱，所述过滤箱放置在烘干腔内部底端，所述过滤箱两端均设有与过滤箱内部连通的管道，所述过滤箱左侧设有连通管道的抽吸泵，所述管道左侧远离抽吸泵的一端通过若干个固定板固定在烘干腔内壁左侧壁上，所述左侧管道设有若干个与管道连通的抽风口，所述烘干腔外侧壁设有与右侧管道连通的出风口。

5.根据权利要求1所述的压电石英晶片的超声波清洗设备，其特征在于：所述烘干腔内部两端侧壁顶端设有干燥盒，所述干燥盒内部装有100-200目的硅胶。

6.根据权利要求1所述的压电石英晶片的超声波清洗设备，其特征在于：所述清洗室与烘干室底部设有若干个支撑脚，所述支撑脚与第一支撑架和第二支撑架底端处于同一平面上，所述支撑脚底部设有缓冲层。