[发明专利]用于填充间隙的方法和系统

权利要求书

1.一种用于固化间隙填充流体的方法，该方法包括：

提供包括间隙的衬底，该间隙至少部分填充有间隙填充流体，该间隙填充流体包括金属和准金属中的至少一种；以及

将衬底暴露于转变反应物，从而将至少一部分间隙填充流体热转化为转变的材料。

2.一种用于填充间隙的方法，该方法包括：

提供包括间隙的衬底；

用间隙填充流体至少部分地填充间隙，间隙填充流体包括金属和准金属中的至少一种；以及

将衬底暴露于转变反应物，从而将至少一部分间隙填充流体热转化为转变的材料。

3.一种填充间隙的方法，该方法包括：

提供衬底，该衬底包括间隙；

提供包括间隙填充流体反应室和转变反应室的系统；

执行多个超级循环，超级循环包括：

将衬底移入间隙填充流体反应室；

在间隙填充流体反应室中形成间隙填充流体，从而用间隙填充流体至少部分地填充间隙，其中间隙填充流体包括金属和准金属中的至少一种；

将衬底移动到转变反应室中；以及

在转变反应室中使衬底经受转变处理，从而将至少一部分间隙填充流体转化为转变的材料。

4.根据权利要求2所述的方法，包括执行多个超级循环，超级循环包括用间隙填充流体至少部分填充所述间隙的步骤，以及使所述衬底经受转变反应物的步骤。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述间隙填充流体还包括卤素。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述间隙填充流体包括过渡金属。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述过渡金属包括Ti。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述间隙填充流体包括IVA族元素。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述IVA族元素包括锗。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述转变反应物包括IVA族元素。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述转变反应物包括硅烷。

12.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述转变反应物包括磷属元素。

13.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述转变反应物包括硫属元素。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法，其中，所述转变反应物包括稀有气体。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的方法，其中，所述转变反应物包括还原剂。

16.根据权利要求1至15中任一项所述的方法，其中，所述间隙填充流体中包含的金属或准金属包含选自W,Ge,Sb,Te,Nb,Ta,V,Ti,Zr,Hf,Rh,Fe,Cr,Mo,Au,Pt,Ag,Ni,Cu,Co,Zn,Al,In,Sn和Bi的元素。

17.一种系统，包括：

反应室；

前体气体源，其包括金属前体和准金属前体中的至少一种；

沉积反应物气体源，其包括沉积反应物；

转变反应物气体源，其包括转变反应物；以及

控制器，其中，控制器配置成控制气体流入反应室，以执行根据权利要求1至16中任一项所述的方法。