[发明专利]点火方法和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种点火方法，其为在等离子体处理装置中的点火方法，所述等离子体处理装置包括：

高频电源，其施加被控制为可变的频率的高频；

等离子体生成部，其具有能够被施加所述高频的电极，从气体生成等离子体；和

设置于所述高频电源与所述电极之间的匹配器，

该点火方法的特征在于，包括：

从所述高频电源将第1频率的高频施加到所述电极，由所述等离子体生成部将等离子体点火的工序；和

从所述高频电源施加所述第1频率的高频起经过规定时间后，施加与所述第1频率的高频不同的第2频率的高频。

2.如权利要求1所述的点火方法，其特征在于：

所述第2频率比所述第1频率低。

3.如权利要求1或2所述的点火方法，其特征在于：

所述规定时间为1msec以上100msec以下。

4.如权利要求1～3中任一项所述的点火方法，其特征在于：

在参照预先设定的条件表，依次执行不同处理条件的多个处理时，所述将等离子体点火的工序中，对每个处理将所述第1频率可变地控制为所述条件表中设定的工作开始频率，将等离子体点火。

5.如权利要求4所述的点火方法，其特征在于：

将特定的处理条件的处理中的反射波的检测值与保存在所述条件表中的所述特定的处理条件的反射波的更新值相比较，所述反射波的检测值比所述反射波的更新值小的情况下，将与所述反射波的更新值相关联地保存在所述条件表中的可变电容器的预置位置和所述反射波的更新值，更新为所述处理中的所述匹配器内的可变电容器的匹配位置和所述反射波的检测值。

6.如权利要求5所述的点火方法，其特征在于：

在保存于所述条件表中的可变电容器的预置位置与所述处理中的所述匹配器的可变电容器的匹配位置之差分比预先设定的阈值大的情况下，不对保存在所述条件表中的可变电容器的预置位置和所述反射波的更新值进行更新。

7.如权利要求6所述的点火方法，其特征在于：

在所述差分比所述阈值大的情况下，输出警告。

8.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

高频电源，其施加被控制为可变的频率的高频；

等离子体生成部，其具有能够被施加所述高频的电极，从气体生成等离子体；

设置于所述高频电源与所述电极之间的匹配器；和

控制部，

所述控制部执行：

从所述高频电源将第1频率的高频施加到所述电极，由所述等离子体生成部将等离子体点火的工序；和

从所述高频电源施加所述第1频率的高频起经过规定时间后，施加与所述第1频率的高频不同的第2频率的高频。