[发明专利]一种磨料制备装置、抛光系统及工作方法有效
申请号: | 202210278449.9 | 申请日: | 2022-03-21 |
公开(公告)号: | CN114590814B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 陈辉;孙启林;许崇海;肖光春;衣明东;张静婕;陈照强 | 申请(专利权)人: | 齐鲁工业大学 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18;C01G23/053;B82Y40/00;B01J4/00;B01J19/18;B01D36/04;B24B29/02;B24B57/02;B24B57/00;B24B57/04;C09G1/02 |
代理公司: | 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 | 代理人: | 赵敏玲 |
地址: | 250353 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磨料 制备 装置 抛光 系统 工作 方法 | ||
1.一种抛光系统,其特征在于,包括依次连接的磨料制备装置、抛光工作台和回收装置,抛光工作台包括抛光泵、抛光仓和储液箱,磨料制备装置通过输送管路连接抛光泵入口,抛光泵出口朝向抛光仓内的抛光工位,抛光仓连通储液箱,回收装置入口端连通储液箱,回收装置出口端接入输送管路;
所述磨料制备装置包括生成箱、搅拌机构和多个投料机构,搅拌机构布置在生成箱内;投料机构包括依次连接的原料箱、原料泵和原料阀,原料阀输出端连通生成箱,原料阀、原料泵分别连接至控制器,控制器用于调节原料箱出料速度和不同原料箱出料配比,以调节生成箱内制备磨料的粒径;
所述磨料为纳米二氧化硅或二氧化钛磨料;
所述原料箱包括存放有无水乙醇的第三原料箱,存放有NH3含量为23-28wt%的氨水的第二原料箱,存放有正硅酸乙酯或正钛酸乙酯的第一原料箱;
所述控制器用于控制搅拌机构搅拌、控制原料箱中混合液pH值为10.5-12、控制生成箱内温度保持在30℃-70℃之间、控制第一原料箱滴加速度为0.02-0.6体积单位每分钟。
2.如权利要求1所述的抛光系统,其特征在于,所述抛光仓下部包括漏斗状的过滤通道,过滤通道内沿轴向依次设置有多层过滤网,过滤通道一端朝向抛光工位,另一端连通储液箱。
3.如权利要求2所述的抛光系统,其特征在于,所述储液箱通过储液阀和离心阀连接回收装置,储液阀和离心阀之间的管路通过离心液输送阀接入输送管路。
4.如权利要求1所述的抛光系统,其特征在于,所述回收装置包括离心机,离心机输入端连接抛光仓,离心机输出端连接输出管路,以将离心液输出至抛光泵;
所述回收装置通过回流管路连接输送管路,输送管路通过生成液输送阀连接磨料制备装置。
5.如权利要求1所述的抛光系统,其特征在于,所述抛光泵连接有压力装置,以驱动抛光泵输出的磨料和/或抛光液通过出液口喷射至抛光工位;
所述抛光仓内设有抛光盘、承载输送机构和抛光驱动机构,抛光驱动机构和承载输送机构连接于抛光仓的机架,抛光驱动机构输出端连接抛光盘,抛光盘与抛光输送机构之间形成抛光工位。
6.一种如权利要求1-5任一项所述的抛光系统的工作方法,包括以下步骤:
磨料制备装置通过输送管路向抛光泵输送带有磨料的抛光液,抛光泵将抛光液输出至抛光工位,对抛光工位上的工件进行抛光;
抛光仓收集抛光液、磨料和抛光产生的碎屑并输送至储液箱暂存;
回收装置获取储液箱内的混合液进行离心分离,并将离心后得到的抛光液输送至抛光泵进行喷射。
7.如权利要求6所述的工作方法,其特征在于,所述抛光泵抽取回收装置输出的抛光液或磨料制备装置输出的带有磨料的抛光液。
8.如权利要求6所述的工作方法,其特征在于,在抛光仓内布置滤网对抛光后产生的混合液进行过滤。
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