[发明专利]一种磨料制备装置、抛光系统及工作方法

说明书

本发明提供一种磨料制备装置、抛光系统及工作方法，涉及抛光设备技术领域，包括生成箱、搅拌机构和多个投料机构，搅拌机构布置在生成箱内；投料机构包括依次连接的原料箱、原料泵和原料阀，原料阀输出端连通生成箱，原料阀、原料泵分别连接至控制器，控制器用于调节原料箱出料速度和不同原料箱出料配比，以调节生成箱内制备磨料的粒径；针对目前磨料制备装置调节抛光磨料粒径不便的问题，利用多种原料进行磨料的制作，通过调节原料的添加速度和配比得到不同粒径的磨料，在调整磨料粒径的同时保持抛光泵输出抛光液；在工作过程中，抛光、回收、制备有续衔接，独立工作，互不影响，满足连续性抛光的工作需求。

技术领域

本发明涉及抛光设备技术领域，具体涉及一种磨料制备装置、抛光系统及工作方法。

背景技术

抛光是机械加工行业的一项重要工作，通过抛光处理工件表面上遗留的缺陷，使零件的表面光滑，对于提高工件的表面质量及性能有着至关重要的作用。现有的工艺流程采用砂、磨等机械方法进行操作，可将表面的凹凸不平度加工到一定的粗糙度，但无法进一步提高抛光精度；纳米二氧化硅/二氧化钛生成的技术已经比较成熟，但是在抛光中的应用较少；同时由于现有抛光装置的结构限制，在抛光过程中，抛光液规格较为单一且较难实现重复使用，面对不同类型和规格的抛光材料往往使用相同大小的磨料粒径，人工更换不同粒径磨料降低了生产效率，特别对于大批量生成而言，生产成本和效率影响更大。

现有的抛光装置存在抛光液规格较为单一、加工成本较高、加工精度较低和加工质量不稳定等缺点，这一定程度上限制了抛光装置的应用和生产效能。中国专利申请(公开号为CN101456164A)公开了一种流体喷射抛光工艺，通过伺服进给系统控制抛光流程，其工艺流程包括抛光流体制备、抛光和抛光流体回收三个过程，其磨料粒径在一定范围内，但磨料粒径不能实时作出调控，磨料不能在抛光现场生成；中国专利申请(公开号为CN109514394A)公开了一种方便更换磨料的水循环旋流光饰机，该装置可自动排出磨料、清洗工件，实现水循环，但磨料的更换一定程度上仍由人工完成，抛光后续流程需要停机才能完成，降低了抛光效率，适用于小批量、一般工件抛光，不适合大批量、流水线抛光。目前的抛光装置难以满足对抛光液规格进行快速调节的需求，难以实现连续性抛光工作。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的缺陷，提供一种磨料制备装置、抛光系统及工作方法，利用多种原料进行磨料的现场制作，通过调节原料的添加速度和配比得到不同粒径的磨料，供应至抛光泵进行输出，并结合回收装置回流抛光液供应至抛光泵，在调整磨料粒径的同时保持抛光泵输出抛光液，满足连续性抛光的工作需求。

本发明的第一目的是提供一种磨料制备装置，采用以下方案：

包括生成箱、搅拌机构和多个投料机构，搅拌机构布置在生成箱内；投料机构包括依次连接的原料箱、原料泵和原料阀，原料阀输出端连通生成箱，原料阀、原料泵分别连接至控制器，控制器用于调节原料箱出料速度和不同原料箱出料配比，以调节生成箱内制备磨料的粒径。

进一步地，还包括水浴箱，生成箱安装在水浴箱内；控制器连接搅拌机构。

本发明的第二目的是提供一种抛光系统，采用以下方案：

包括依次连接的磨料制备装置、抛光工作台和回收装置，抛光工作台包括抛光泵、抛光仓和储液箱，磨料制备装置通过输送管路连接抛光泵入口，抛光泵出口朝向抛光仓内的抛光工位，抛光仓连通储液箱，回收装置入口端连通储液箱，回收装置出口端接入输送管路。

进一步地，所述抛光仓下部包括漏斗状的过滤通道，过滤通道内沿轴向依次设置有多层过滤网，过滤通道一端朝向抛光工位，另一端连通储液箱。

进一步地，所述储液箱通过储液阀和离心阀连接回收装置，储液阀和离心阀之间的管路通过离心液输送阀接入输送管路。

进一步地，所述回收装置包括离心机，离心机输入端连接抛光仓，离心机输出端连接输出管路，以将离心液输出至抛光泵。