[发明专利]一种单片式晶圆清洗用喷嘴组件及单片式清洗机有效
申请号: | 202210386712.6 | 申请日: | 2022-04-14 |
公开(公告)号: | CN114453324B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 顾雪平;时新宇 | 申请(专利权)人: | 智程半导体设备科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;H01L21/67 |
代理公司: | 苏州友佳知识产权代理事务所(普通合伙) 32351 | 代理人: | 储振 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单片 式晶圆 清洗 喷嘴 组件 | ||
1.一种单片式晶圆清洗用喷嘴组件,包括:喷液管,同轴套设于所述喷液管的气流管,其特征在于,
所述喷液管底端设置抵持所述气流管的旋流器,所述旋流器同轴内嵌分液器;
所述分液器沿环形凹设若干用于均匀分散所述喷液管内液体的导液槽,所述旋流器沿环形凹设若干用于引导所述气流管内气体旋向排出的离心气槽,所述离心气槽形成气体出口处并面向所述导液槽内设供液体流通的导向流道,所述导向流道呈倾斜设置以引导液体旋转向下排出,以引导气体将液体破碎为均匀且更小的呈雾化状的液滴。
2.根据权利要求1所述的单片式晶圆清洗用喷嘴组件,其特征在于,所述喷嘴组件包括:所述喷液管与所述气流管之间形成环形的气流腔体,内嵌所述喷液管顶部的导液管,所述导液管内设供液体流通的第一通道,所述喷液管设置连通所述第一通道的第二通道,所述喷液管与所述气流管的连接处形成位于所述气流腔体顶部的密封圈,所述气流管设置向所述气流腔体内输送气体的进气管。
3.根据权利要求2所述的单片式晶圆清洗用喷嘴组件,其特征在于,所述旋流器包括:与所述气流管相抵持的旋流块与顶块,所述顶块位于所述旋流块顶部,所述顶块与所述旋流块沿环形凹设若干离心气槽。
4.根据权利要求3所述的单片式晶圆清洗用喷嘴组件,其特征在于,所述离心气槽包括:所述顶块沿环形凹设若干呈倾斜设置并连通所述气流腔体的进气槽,以引导所述气流腔体内气体呈旋向流出,所述进气槽远离所述气流腔体的一端形成面向所述导向流道的出口处,以引导气体将导向流道内流出的液体冲散为均匀且更小的呈雾化状的液滴。
5.根据权利要求3所述的单片式晶圆清洗用喷嘴组件,其特征在于,所述分液器包括:内嵌于所述旋流块的衔接块,所述衔接块呈圆台状,所述衔接块底端设置底块,所述衔接块与底块之间形成边缘处,轴向依次贯穿所述衔接块与所述底块的直流槽,所述衔接块与所述底块沿环形凹设若干导液槽,所述旋流器整体包裹衔接块并沿竖直方向部分围合所述底块。
6.根据权利要求5所述的单片式晶圆清洗用喷嘴组件,其特征在于,所述导液槽包括:所述衔接块沿环形均匀凹设若干用于分散所述第二通道内液体的导液流道,所述底块沿环形均匀凹设若干连通所述导液流道的导向流道;
其中,所述导液流道与导向流道均呈直线型,液体在导液流道与导向流道中形成迂回扩散状并向下流动,所述导向流道中向下流动的液体被离心气槽形成气体出口处所汇聚的气体予以分散。
7.一种单片式清洗机,其特征在于,包括:安装板,所述安装板顶部设置两组电机座,连接所述电机座的驱动电机,所述安装板底部竖直装配两组与所述驱动电机同轴设置的支撑件,两组所述支撑件底端分别连接第一旋转座与第二旋转座,所述第二旋转座底端设置安装座,内设于所述安装座顶部的第一气管,所述第一旋转座底端设置摆臂组件,所述摆臂组件远离第一旋转座的一端设置如权利要求2至6中任一项所述的单片式晶圆清洗用喷嘴组件。
8.根据权利要求7所述的单片式清洗机,其特征在于,所述摆臂组件包括:支撑臂,所述支撑臂顶部设置连通进气管的第二气管,连通导液管的第一液管,所述第一液管反向于所述第二气管的一侧形成第二液管,所述支撑臂靠近所述喷嘴组件的一端设置第一连接件,连接所述第一连接件并内嵌所述第二液管的第二连接件,所述第一连接件设置连接所述喷嘴组件的第三连接件,所述支撑臂设置用于分隔所述第二气管与第一液管及第二液管的固定件。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于智程半导体设备科技(昆山)有限公司,未经智程半导体设备科技(昆山)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210386712.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。