[发明专利]一种基于基体材料的微纳米转印材料及其制备方法

权利要求书

1.一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，其组成包括：基材、纳米涂层组合物；

所述纳米涂层组合物的制备原料包括：丙烯酸树脂、丙烯酸酯、助剂、含氟活性物质、光引发剂。

2.如权利要求1所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述纳米涂层组合物的制备原料，按重量份计，包括：丙烯酸树脂25～70份、丙烯酸酯20～60份、助剂1～5份、含氟活性物质10～30份、光引发剂0.5～4份。

3.如权利要求1或2所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸树脂选自聚氨酯丙烯酸树脂、含氟丙烯酸树脂、含氟聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂、烯丙基酚醛树脂中的一种或多种。

4.如权利要求1-3任一项所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸树脂；所述聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸树脂的重量份之比为(1～3)：1。

5.如权利要求1所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸酯选自官能度为2～6的丙烯酸酯；所述丙烯酸酯选自三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、(2-氧代-1，1，3，3-环戊烷四基)四(亚甲基)四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、(2，4，6，8-四甲基环四硅氧烷-2，4，6，8-四基)四(丙烷-1，3-二基)四丙烯酸酯、聚二季戊四醇五丙烯酸酯中的一种或多种。

6.如权利要求5所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸酯为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯；所述三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和季戊四醇四丙烯酸酯的重量份之比为1：(1～2)。

7.如权利要求1所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述助剂选自有机硅氧烷、聚醚改性有机硅、烷烃改性有机硅、聚硅氧烷、聚酯改性有机硅、聚醚硅氧烷共聚物、聚丙烯酸、氟碳改性聚合物、聚四氟乙烯改性微粉蜡中的一种或多种。

8.如权利要求7所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述助剂为聚醚改性有机硅和聚酯改性有机硅；所述聚醚改性有机硅和聚酯改性有机硅的重量份之比为1：(0.8～2)。

9.如权利要求1所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述含氟活性物质选自3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟丁酯、丙烯酸六氟丁酯、3，3，4，4，4-五氟丁基丙烯酸酯、2，2，3，3，4，4-六氟-1,5-戊基二丙烯酸酯、六氟双酚A二丙烯酸酯、2，2，3，3，4，4，5，5-八氟-1，6-己烷二基二丙烯酸酯中的一种或多种。

10.一种如权利要求1～9任一项所述的基于基体材料的微纳米转印材料的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：

S1.将丙烯酸树脂、丙烯酸酯、助剂、含氟丙烯酸酯、光引发剂搅拌混合均匀，采用滤网过滤，即得纳米涂层组合物；

S2.将基材覆于模具表面后滴加S1所得纳米涂层组合物，随后进行辊压；

S3.在辊压过程中进行UV-LED固化、脱模即得。