[发明专利]一种激光投影接近式MicroLED巨量转移转置、方法及系统

权利要求书

1.一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，该装置包括支撑层(11)、动态释放层(12)和粘性层(13)，其中，

所述支撑层(11)为基底层，所述动态释放层(12)设置在所述基底层上，所述粘性层(13)设置在所述动态释放层上，用于与待转移MicroLED接触，当激光穿过所述支撑层(11)照射在该动态释放层(12)上时，该动态释放层(12)发生烧蚀或者相变，从而鼓起并使得所述粘性层(13)也产生鼓泡，从而减小与所述待转移MicroLED的接触，实现转移装与待转移MicroLED的剥离。

2.如权利要求1所述的一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，所述动态释放层(12)采用的材料为聚酰亚胺、GaN、三氮烯聚合物、金和钛中的一种。

3.如权利要求2所述的一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，所述动态释放层的厚度为5μm～15μm。

4.如权利要求1或2所述的一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，所述粘性层(13)为粘弹性材料，为聚二甲基硅氧烷或环氧树脂。

5.如权利要求4所述的一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，所述粘性层的厚度为30μm～40μm。

6.如权利要求1或2所述的一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，所述支撑层(11)的材料为蓝宝石或者石英。

7.如权利要求6所述的一种激光投影接近式巨量转移装置，其特征在于，所述支撑层的厚度为500μm～1000μm。

8.一种权利要求1-7任一项所述的激光投影接近式巨量转移装置进行巨量转移的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：

S1将巨量转移装置设置在待转移MicroLED上方，并一一对应；

S2采用激光照射所述巨量转移装置，激光穿过所述支撑层照射在所述动态释放层，使得动态释放层烧蚀或发生相变鼓泡，巨量转移装置的粘性层和待转移MicroLED界面接触面积减少；

S3巨量转移装置鼓泡产生回弹，使得MicroLED完全从印章上剥离，并成功转移到接收基底上。

9.一种对权利要求1-7任一项所述的激光投影接近式巨量转移装置进行激光投影的系统，其特征在于，该系统包括光源(41)、衰减器(42)、望远单元(43)、匀光器(44)、光斑投影单元(45)和运动平台(90)，其中：

所述衰减器(42)设置在所述光源(41)的前方，用于调节所述光源(41)发出的激光的输出能量；所述望远单元(43)设置在所述衰减器(42)后方，用于将来自所述衰减器(42)的光斑进行扩束和整形；所述匀光器(44)设置在所述望远单元后方，用于从来自所述望远单元(43)的光中截取一段波长稳定的光束；所述光斑投影单元(45)设置在所述匀光器(44)的后方，用于将来自所述匀光器的光进行图案化和聚焦，所述运动平台(90)设置在所述光斑投影单元(45)的下方，用于放置权利要求1-4任一项所述的激光投影接近式巨量转移装置。

10.如权利要求9所述的进行激光投影的系统，其特征在于，所述系统中还包括反射镜，所述衰减器和望远单元之间，所述匀光器与所述光斑投影单元之间均设置有反射镜，用于改变光路的方向。