[发明专利]酰胺氮氧自由基修饰的苝分子及其制备和应用

权利要求书

1.酰胺氮氧自由基修饰的苝分子，其特征在于，具有式1结构式：

所述的R₁～R₄独自为C₁～C₁₀的烷基、C₁～C₁₀的烷氧基或C₁～C₁₀的烷氨基；

所述的R₅～R₁₂中的至少一个取代基为式A的酰胺自由基取代基，其余的取代基为H、C₁～C₁₀的烷基、C₁～C₁₀的烷氧基、C₁～C₁₀的烷氨基或芳香基团；

式A中，所述的Ar为芳香基团；所述的Ra为H、C₁～C₁₀的烷基：

所述的芳香基团为苯环、五元杂环芳基、六元杂环芳基或稠环芳香基团，所述的稠环芳香基团为通过苯环、五元杂环芳基、六元杂环芳基中的两个及以上芳香环并合形成的芳香环；

所述的烷基、烷氧基、烷氨基、芳基基团的碳上允许带有取代基，所述的取代基为C₁～C₆的烷氧基、苯基、巯基、醛基、氰基、硅烷基、三氟甲基、磺酰基、卤素中的至少一种。

2.如权利要求1所述的酰胺氮氧自由基修饰的苝分子，其特征在于，所述的R₁～R₄独自为C₃～C₆的烷基或者C₃～C₆的烷氧基；

优选地，R₁～R₄为相同取代基。

3.如权利要求1所述的酰胺氮氧自由基修饰的苝分子，其特征在于，所述的R₅～R₁₂中，其中的1～4个取代基为式A的取代基；

优选地，所述的R₅～R₁₂中，2个或4个取代基为式A取代基。

4.如权利要求1～3任一项所述的酰胺氮氧自由基修饰的苝分子，其特征在于，所述的R₅、R₈、R₉、R₁₂为式A取代基，或者，R₆、R₇、R₁₀、R₁₁中的两个取代基为式A取代基；

所述的式A取代基如下：

所述的R₅～R₁₂中，其余取代基为H、C₁～C₁₀的烷基、C₁～C₁₀的烷氧基。

5.一种权利要求1～4任一项所述的酰胺氮氧自由基修饰的苝分子的制备方法，其特征在于，将式2的卤代原料和式3的硼酸酯原料进行Suzuki偶联反应，得到偶联产物；

随后将偶联产物和式4的胺类原料进行酰胺化反应，或者将偶联产物进行酯基水解后再和式4的胺类原料进行酰胺化反应，制得所述的酰胺氮氧自由基修饰的苝分子；

所述的式2中，R₁～R₄的取代基同式1，所述的X₁～X₈中，和式1中的式A取代基相同位点的取代基为卤素，其余取代基同式1的相同位点的取代基；

所述的Rb为C1～C10的烷基；

所述的式4中的Ra同式1；

所述的卤素为-Cl、-Br或-I。