[发明专利]改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法在审
| 申请号： | 202210586026.3 | 申请日： | 2022-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN115327854A | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 方正;吴长明;冯大贵;姚振海;金乐群;王绪根;杨伟;王宇凡 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 改善 晶圆上旋涂 光刻 边缘 产生 方法 | ||
1.一种改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于，至少包括：
步骤一、提供晶圆和光刻胶旋涂机，利用所述光刻胶旋涂机在所述晶圆表面形成光刻胶层；
步骤二、利用所述光刻胶旋涂机以第一转速旋涂所述光刻胶层，用以减薄所述光刻胶层；
步骤三、降低所述光刻胶旋涂机的转速至第二转速，之后旋涂所述光刻胶层至设定的厚度。
2.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：步骤一中所述光刻胶旋涂机以2000转/每分钟在所述晶圆表面形成所述光刻胶层。
3.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：步骤二中在所述晶圆表面形成所述光刻胶层1至2S后将所述光刻胶旋涂机的转速调节至第一转速。
4.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：步骤二中的所述第一转速为2500至3200转/每分钟。
5.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：步骤二中的所述光刻胶旋涂机以3200转/每分钟的转速旋涂所述光刻胶层1.2s，之后以2500转/每分钟的转速旋涂所述光刻胶层1S。
6.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：步骤三中所述光刻胶旋涂机以所述第二转速旋涂所述光刻胶层30S。
7.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：步骤三中的所述第二转速为1390转/每分。
8.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：所述方法还包括步骤四、调节所述光刻胶旋涂机的转速旋涂所述光刻胶层。
9.根据权利要求1所述的改善在晶圆上旋涂光刻胶中边缘风旋产生的方法，其特征在于：所述方法用于在12寸晶圆上旋涂光刻胶。
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